プラズマフォーカス高エネルギフォトン源

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中村稔 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000118725
Publication number (International publication number)：2001042098
Application date： Mar. 15, 2000
Publication date： Feb. 16, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】プラズマフォーカス高エネルギフォトン源を提供する。【解決手段】高エネルギフォトン源。一対のプラズマフォーカス電極が真空室の中に設置される。希バッファガス及び活性ガスを含む作動ガスが所望のスペクトルラインを提供するために選択される。パルスパワー源は、該活性ガスのスペクトル線を持つ放射を供給する該機能ガス中で、非常に高温高密度のプラズマフォーカスを産生する電極間に、放電を生じるのに十分な高電圧で電気パルスを供給する。外側反射放射収集器-指向器が、プラズマ絞り込みで作り出される放射を収集し、放射を所望の方向に差し向ける。好ましい実施形態では、活性ガスはリチウムであり、バッファガスはヘリウムであり、放射収集器-指向器は電極のために使用される材料で被覆される。材料の好ましい選択はタングステンである。

Claim (excerpt)：

A. 真空室と、B. 前記真空室内に設置され、電気放電領域を規定し、かつ放電上の絞り込み部に高周波プラズマ絞り込みが生じるように配置された少なくとも2つの電極と、C. 少なくとも1つのスペクトル線を持つ光を供給するように選択された活性ガス、及び貴ガスである緩衝ガスを含む機能ガスと、D. 前記放電領域に機能ガスを供給する機能ガス供給システムと、E. 前記少なくとも1対の電極間に放電を生じさせるに十分な電気パルス及び高電圧を供給するパルスパワー源と、F. 前記プラズマ絞り込みで作り出された放射を収集し、前記放射を所望の方向に差し向けるための外部反射放射収集-指向器と、を有することを特徴とする高エネルギフォトン源。

IPC (5)：

G21K 5/02 , G21K 5/00 , H01L 21/027 , H05G 2/00 , H05H 1/24

FI (5)：

G21K 5/02 X , G21K 5/00 Z , H05H 1/24 , H01L 21/30 531 S , H05G 1/00 K

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

プラズマ・フォーカス高エネルギ・フォトン・ソース
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-127187 Applicant：サイマーインコーポレイテッド
X線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-127600 Applicant：株式会社ニコン
X線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-055138 Applicant：株式会社ニコン

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