X線発生装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995127600
Publication number (International publication number)：1996321395
Application date： May. 26, 1995
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【目的】 X線の取り出し方向について、不都合な飛散粒子の付着、堆積を低減して、その結果、長時間安定して使用できるX線発生装置を提供すること。【構成】減圧された真空容器内の標的部材303に励起エネルギービーム311を照射してプラズマを形成させ、該プラズマからX線を取り出すX線発生装置であり、前記標的部材303及び/又は前記プラズマから放出される飛散粒子を阻止するためにバッファガスを用いるX線発生装置において、前記X線を取り出す範囲に相当する立体角領域に隣接または近接する飛散粒子阻止部材330を設けたことを特徴とするX線発生装置。

Claim (excerpt)：

減圧された真空容器内の標的部材に励起エネルギービームを照射してプラズマを形成させ、該プラズマからX線を取り出すX線発生装置であり、前記標的部材及び/又は前記プラズマから放出される飛散粒子を阻止するためにバッファガスを用いるX線発生装置において、前記X線を取り出す範囲に相当する立体角領域に隣接または近接する飛散粒子阻止部材を設けたことを特徴とするX線発生装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

レーザプラズマX線源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-092829 Applicant：株式会社ニコン
顕微鏡のケーラ照明光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-209182 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
特開昭63-292553

Cited by examiner (3)

レーザプラズマX線源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-092829 Applicant：株式会社ニコン
顕微鏡のケーラ照明光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-209182 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
特開昭63-292553

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