Pat

J-GLOBAL ID：200903024756078048

ターゲットとその製造方法および高屈折率膜の形成方法

Inventor： 木田 音次郎 ,  光井 彰
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Agent (1)： 泉名 謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995118763
Publication number (International publication number)：1996158048
Application date： May. 17, 1995
Publication date： Jun. 18, 1996
Summary：

【要約】【構成】表面が荒らされた金属基体上に、特定の熱膨張係数を有するアンダーコート、TiOx (1 Claim (excerpt)：

金属基体の表面を荒らし、その上にプラズマ溶射により金属または合金からなるアンダーコートを形成し、次いで、セラミックス粉末を還元下の高温プラズマガス中で、半溶融状態にしつつ、このガスにより前記アンダーコート上に輸送して付着させ、ターゲット材となるセラミックス層を形成するスパッタリングターゲットの製造方法において、アンダーコートとしては、セラミックス層の熱膨張係数と金属基体の熱膨張係数との中間の熱膨張係数を有する層および/またはセラミックス層の熱膨張係数に近い熱膨張係数を有する層を形成し、セラミックス層としては、TiOx (1 IPC (4)：

C23C 14/34 ,  C23C 4/10 ,  C23C 4/18 ,  C23C 14/08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• セラミックス回転カソードターゲットおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-250543   Applicant：旭硝子株式会社
• セラミックス回転カソードターゲットおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-312882   Applicant：旭硝子株式会社

Cited by examiner (2)

• セラミックス回転カソードターゲットおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-250543   Applicant：旭硝子株式会社
• セラミックス回転カソードターゲットおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-312882   Applicant：旭硝子株式会社