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J-GLOBAL ID：200903025008347113

整髪用被膜形成樹脂

Inventor：
狩谷 直洋

About 狩谷 直洋

, 
猿渡 欣幸

About 猿渡 欣幸

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向山 高広

About 向山 高広


Applicant, Patent owner：
花王株式会社

About 花王株式会社

, 
大阪有機化学工業株式会社

About 大阪有機化学工業株式会社


Agent (10)： 特許業務法人アルガ特許事務所 ,  有賀 三幸 ,  高野 登志雄 ,  中嶋 俊夫 ,  村田 正樹 ,  山本 博人 ,  的場 ひろみ ,  守屋 嘉高 ,  大野 詩木 ,  松田 政広
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005226642
Publication number (International publication number)：2007039391
Application date： Aug. 04, 2005
Publication date： Feb. 15, 2007
Summary：
【課題】、高湿度下でもべたつくことなく、ヘアスタイルを長時間保持でき、かつシャンプー洗浄性にも優れる整髪用被膜形成樹脂及びこれを含有する毛髪化粧料を提供することを目的とする。【解決手段】次のモノマー成分(A)〜(D)を含むモノマー成分を共重合させて得られる整髪用被膜形成樹脂及びこれを含有する毛髪化粧料。 (A) CH2=C(R1)-COO-R2-Si(OR3)3:0.5〜20重量% (B) CH2=C(R1)-COOR4 :20〜98.5重量% (C) CH2=C(R1)-COO-R5-OH:0.5〜60重量% (D) 両イオン性基含有エチレン性不飽和モノマー:0.5〜50重量%〔R1:水素原子又はメチル基、R2:C1〜C3の2価飽和炭化水素基、R3:C1〜C3ののアルキル基又はアセチル基、R4はC1〜C18のアルキル基、R5はC2〜C8のアルキレン基〕【選択図】なし
Claim (excerpt)：
次のモノマー(A)〜(D)を含むモノマー成分を共重合させて得られる整髪用被膜形成樹脂。 (A) 一般式(1)で表されるシロキシ基含有(メタ)アクリレート系モノマーを0.5〜20重量% CH2=C(R1)-COO-R2-Si(OR3)3 (1) 〔式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2は炭素数1〜3の2価飽和炭化水素基を示し、R3は炭素数1〜3のアルキル基又はアセチル基を示す。〕 (B) 一般式(2)で表される(メタ)アクリレート系モノマーを20〜98.5重量% CH2=C(R1)-COOR4 (2) 〔式中、R1は前記と同じ意味を示し、R4は炭素数1〜18のアルキル基を示す。〕 (C) 一般式(3)で表される水酸基含有(メタ)アクリレート系モノマーを0.5〜60重量% CH2=C(R1)-COO-R5-OH (3) 〔式中、R1は前記と同じ意味を示し、R5は炭素数2〜8のアルキレン基を示す。〕 (D) 両イオン性基含有エチレン性不飽和モノマーを0.5〜50重量%
IPC (3)：
A61K 8/00 ,  A61Q 5/06 ,  C08F 220/10
FI (2)：
A61K7/11 ,  C08F220/10
F-Term (35)：
4C083AC022 ,  4C083AC102 ,  4C083AC182 ,  4C083AC352 ,  4C083AC482 ,  4C083AC542 ,  4C083AD011 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083CC32 ,  4C083DD08 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD41 ,  4C083EE07 ,  4J100AB02T ,  4J100AG04T ,  4J100AL03P ,  4J100AL04P ,  4J100AL05P ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100AL09Q ,  4J100AM21R ,  4J100AQ08T ,  4J100BA04T ,  4J100BA32R ,  4J100BA77S ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100JA61
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 特開平4-321618号公報
  • 特開平4-360815号公報
  • 毛髪処理用組成物及び毛髪処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-151537   Applicant：株式会社資生堂
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Cited by examiner (3)
  • 整髪用樹脂の製法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-327669   Applicant：大阪有機化学工業株式会社
  • 整髪用被膜形成樹脂
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-263740   Applicant：花王株式会社, 大阪有機化学工業株式会社
  • 反応型コーティング剤
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-082725   Applicant：三洋化成工業株式会社

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