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J-GLOBAL ID：200903025033312987
薄膜形成方法、表示装置およびカラーフィルタ
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998069146
Publication number (International publication number)：1999271753
Application date： Mar. 18, 1998
Publication date： Oct. 08, 1999
Summary：
【要約】【課題】 親和性制御に要するコストを削減し、均一な膜厚で薄膜の多層化を可能とする。【解決手段】 薄膜材料液(130)に対し親和性を示す材料(SiO2等の無機材料)で親和性バンク層(111-11n)を形成する工程と、薄膜材料液(130)に対し非親和性を示す材料(レジスト等の有機材料)で非親和性バンク層(121-12n)を形成する工程と、を一回以上繰り返すことにより、親和性バンク層と非親和性バンク層とが交互に積層されたバンク(110)を形成する。最後にインクジェット方式により薄膜材料液(130)をバンク間に充填し加熱処理をして薄膜層(131-13n)を順次積層していく。
Claim (excerpt)：
バンクで囲まれた領域に薄膜材料液を充填して薄膜層を形成する薄膜形成方法であって、バンク形成面に前記バンクを形成する工程と、前記バンクに前記薄膜材料液を充填する工程と、を備え、前記バンクを形成する工程は、前記薄膜材料液に対し親和性を示す材料で親和性バンク層を形成する工程と、前記親和性バンク層上に前記薄膜材料液に対し非親和性を示す材料で非親和性バンク層を形成する工程と、を一回以上繰り返すことにより、親和性バンク層と非親和性バンク層とが交互に積層された前記バンクを形成するものであることを特徴とする薄膜形成方法。
IPC (4)：
G02F 1/1335 505
, G02B 5/20 101
, G09F 9/30 349
, H01L 51/00
G02F 1/1335 505
, G02B 5/20 101
, G09F 9/30 349 B
, H01L 29/28
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (1)
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