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J-GLOBAL ID：200903025087441138

微細構造体の製造方法

Inventor： 石田 方哉 ,  古沢 昌宏
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 上柳 雅誉 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000098158
Publication number (International publication number)：2001284289
Application date： Mar. 31, 2000
Publication date： Oct. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】 ミクロンオーダーの精度を有し、尚且つ、簡便な工程で良質な機能性薄膜を形成するパターンニング手段を提供する。【解決手段】 基板表面に有機分子膜(14)を用いて、親液部と撥液部とを所定のパターンに形成するとともに、スピンコート法により前記基板上の親液部に選択的に機能性薄膜(13)を形成する。

Claim (excerpt)：

機能性薄膜を備えた微細構造体の製造方法であって、基板表面に有機分子膜を用いて、親液部と撥液部とを所定のパターンに形成する工程と、スピンコート法により前記基板上の親液部に選択的に機能性薄膜を形成する工程とを有する微細構造体の製造方法。

IPC (8)：

H01L 21/288 ,  B05D 1/40 ,  B05D 7/04 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/28 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/3205 ,  H01L 29/06

FI (8)：

H01L 21/288 Z ,  B05D 1/40 A ,  B05D 7/04 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/28 A ,  H01L 21/316 G ,  H01L 29/06 ,  H01L 21/88 B

F-Term (41)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096AA30 ,  2H096BA20 ,  2H096CA14 ,  2H096FA01 ,  2H096GA60 ,  4D075AC64 ,  4D075AC94 ,  4D075AD16 ,  4D075AE03 ,  4D075BB23Z ,  4D075CA36 ,  4D075CA37 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075DC21 ,  4M104AA10 ,  4M104BB36 ,  4M104DD22 ,  4M104DD51 ,  4M104DD62 ,  4M104HH14 ,  5F033GG04 ,  5F033HH38 ,  5F033PP26 ,  5F033QQ01 ,  5F033QQ91 ,  5F033WW00 ,  5F058AA03 ,  5F058AA06 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058BA06 ,  5F058BC05 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• パターン形成体およびパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-165392   Applicant：大日本印刷株式会社
• 特開平4-326719
  
• 金属パターンの形成方法及び金属配線パターンを有する半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-118120   Applicant：ソニー株式会社