熱処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：井上一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994155356
Publication number (International publication number)：1995099165
Application date： Jun. 14, 1994
Publication date： Apr. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】被処理体の全面を均一な温度で効率良く熱処理することができると共に製造工程でのスループットを向上させる熱処理装置を提供することにある。【構成】処理位置に配置された被処理体Wの少なくとも表面側および裏面側に均熱部材22を配置している。この均熱部材22は、面状発熱源20からの輻射熱により加熱され、二次輻射熱を放射して被処理体Wを均一に加熱する。特に、裏面側の均熱部材22Aは、放熱の多い被処理体Wの周縁部を、その裏面側より加熱して、被処理体Wの処理温度の面内均一性を改善する。

Claim (excerpt)：

被処理体の搬入出用の下端開口を有し、処理位置に配置される被処理体を輻射加熱する一次加熱源を上方に備えている縦型プロセスチューブと、水平に支持した状態の上記被処理体を上記開口から上記プロセスチューブ内に搬入し、上記処理位置に設定する上下動可能な被処理体用ホルダーと、上記プロセスチューブ内の処理位置に向け反応ガスを供給するガス供給手段と、上記一次加熱源により加熱されることで、上記処理位置に設定された上記被処理体裏面に向けて二次輻射熱線を放射して、少なくとも上記被処理体の周縁部を加熱する二次加熱源と、を有することを特徴とする熱処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/22 511 , H01L 21/205 , H01L 21/31 , H01L 21/324

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開昭63-232422
熱処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-339570 Applicant：東京エレクトロン相模株式会社
縦型熱処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-252138 Applicant：東京エレクトロン東北株式会社

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