ガス精製装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (4)：光石俊郎 , 光石忠敬 , 田中康幸 , 松元洋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003138054
Publication number (International publication number)：2004337745
Application date： May. 16, 2003
Publication date： Dec. 02, 2004
Summary：

【課題】硫黄系不純物及び有機珪素系不純物を含有する原ガスを低コストでコンパクトに精製することができるガス精製装置を提供する。【解決手段】吸着塔11と、吸着塔11の下方側から上方側へ原ガス1を流通させるブロア16、バルブ18a〜18c等と、吸着塔11を減圧排気するブロア16、バルブ19a,19b等と、吸着塔11内の下方側と上方側とを仕切るように吸着塔11内に配設され、有機珪素系不純物1aを吸着するハニカム形状の高シリカモレキュラーシーブスからなる有機珪素系不純物吸着剤12と、吸着塔11内の下方側と上方側とを仕切るように吸着塔11内に配設され、硫黄系不純物1bを吸着するハニカム形状の高シリカゼオライトからなる硫黄系不純物吸着剤13とを備えてガス精製装置10を構成した。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

硫黄系不純物及び有機珪素系不純物を含有する原ガスを精製するガス精製装置であって、第一の処理槽と、前記第一の処理槽の一方側から他方側へ前記原ガスを流通させる第一のガス送給手段と、前記第一の処理槽内を減圧排気する第一の減圧排気手段と、前記第一の処理槽内の一方側と他方側とを仕切るように当該第一の処理槽内に配設され、前記有機珪素系不純物を吸着する高シリカモレキュラーシーブスからからなる有機珪素系不純物吸着剤と、前記第一の処理槽内の一方側と他方側とを仕切るように当該第一の処理槽内に配設され、前記硫黄系不純物を吸着する高シリカゼオライトからなる硫黄系不純物吸着剤とを備えていることを特徴とするガス精製装置。

IPC (1)：

B01D53/04

FI (1)：

B01D53/04 C

F-Term (7)：

4D012CA07 , 4D012CB13 , 4D012CB16 , 4D012CD07 , 4D012CG01 , 4D012CG06 , 4D012CJ10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開昭61-113689
特開昭61-207494
特開昭64-034422

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