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J-GLOBAL ID：200903025598693216

教示用データ作成方法並びに欠陥分類方法およびその装置

Inventor： 下田 篤 ,  高木 裕治
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998154865
Publication number (International publication number)：1999344450
Application date： Jun. 03, 1998
Publication date： Dec. 14, 1999
Summary：

【要約】【課題】正確な教示用データの作成を支援できることによって、欠陥の発生原因を推定するために欠陥の画像信号から欠陥の種類を正確に分類できるようにした学習機能を備えた欠陥分類方法およびその装置を提供することにある。【解決手段】本発明は、欠陥画像信号を元に欠陥の種類を分類するための教示データ作成方法であって、複数の教示用欠陥画像について複数の特徴量を算出し、各教示用欠陥について前記算出された特徴量に基づく特徴空間におけるカテゴリ間の判別関数で示される分類パラメータを算出して複数の教示用欠陥と欠陥の種類に対応するカテゴリとの対応関係を示す教示用データの統計的有意性を診断し、性能を低下させる可能性がある教示用欠陥画像を画面に表示して前記教示データを修正することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

欠陥画像信号を元に欠陥の種類を分類するための教示用データ作成方法であって、複数の教示用欠陥画像に対して欠陥の種類に対応するカテゴリを付与することにより教示用データを作成し、前記教示用欠陥画像の各々について複数の特徴量を算出し、前記付与されたカテゴリと前記算出された特徴量とに基づき教示用欠陥画像の特徴量空間におけるカテゴリ間の判別関数を算出し、該判別関数を用いて教示用欠陥画像とカテゴリの対応からなる教示用データを診断し、少なくとも性能を低下させる可能性がある教示用欠陥画像を画面に表示して前記教示用データを修正することを特徴とする教示用データ作成方法。

IPC (2)：

G01N 21/88 ,  G06T 7/00

FI (4)：

G01N 21/88 J ,  G01N 21/88 E ,  G06F 15/62 405 A ,  G06F 15/70 465 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 外観検査方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-057781   Applicant：日立電子株式会社
• 欠陥種別判定装置及びプロセス管理システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-157424   Applicant：オリンパス光学工業株式会社