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J-GLOBAL ID：200903025698883926

レーザ光発生装置およびレーザ光発生方法

Inventor： 森 勇介 ,  金田 有史 ,  吉村 政志 ,  佐々木 孝友 ,  北岡 康夫
Applicant, Patent owner： 国立大学法人大阪大学
Agent (2)： 辻丸 光一郎 ,  中山 ゆみ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007226286
Publication number (International publication number)：2009058782
Application date： Aug. 31, 2007
Publication date： Mar. 19, 2009
Summary：

【課題】 波長180nm以下の短波長のレーザ光を高効率、安定かつ長寿命で発生させるレーザ光発生装置およびレーザ光発生方法を提供する。【解決手段】 第1レーザ光照射手段100により、波長190〜200nmの第1レーザ光101を第3レーザ光発生手段300に照射する。一方、第2レーザ光照射手段200により、第2レーザ光201を第3レーザ光発生手段300に照射する。第3レーザ光発生手段300は、CBO結晶を含む。そして、第3レーザ光発生手段300に含まれるCBO結晶により、第1レーザ光101と第2レーザ光201を和周波混合させ、波長170〜178nmの短波長レーザ光である第3レーザ光301を発生させる。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

第1レーザ光を照射する第1レーザ光照射手段と、 第2レーザ光を照射する第2レーザ光照射手段と、 前記第1レーザ光および前記第2レーザ光を和周波混合させて第3レーザ光を発生させる第3レーザ光発生手段とを備えた、レーザ光発生装置であって、 前記第1レーザ光の波長が、190〜200nmの範囲であり、 前記第2レーザ光の波長が、1540〜1565nmの範囲であり、 前記第3レーザ光発生手段が、CBO結晶を含み、前記和周波混合が、前記CBO結晶に前記第1レーザ光および前記第2レーザ光を照射することにより行われ、かつ、 前記第3レーザ光の波長が、170〜178nmの範囲であることを特徴とするレーザ光発生装置。

IPC (2)：

G02F 1/37 ,  H01S 3/109

FI (2)：

G02F1/37 ,  H01S3/109

F-Term (17)：

2K002AB12 ,  2K002CA02 ,  2K002DA01 ,  2K002EA30 ,  2K002GA05 ,  2K002HA19 ,  5F172AE03 ,  5F172AE08 ,  5F172AE09 ,  5F172AF02 ,  5F172AF03 ,  5F172AF06 ,  5F172AM08 ,  5F172EE13 ,  5F172EE15 ,  5F172NR22 ,  5F172NR24

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 深紫外レーザー装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-271310   Applicant：株式会社メガオプト, アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社
• 深紫外レーザー装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-271357   Applicant：株式会社メガオプト, アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社
• 米国特許出願公開第2007/0064749号明細書
  
• 米国特許出願公開第2007/0064750号明細書