Pat
J-GLOBAL ID:200903021039003921
深紫外レーザー装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
上島 淳一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005271357
Publication number (International publication number):2007086104
Application date: Sep. 20, 2005
Publication date: Apr. 05, 2007
Summary:
【課題】波長198.3〜198.8nmの波長域のレーザー光を発生することができるとともに、照明用の光源として各種装置に搭載可能であり、かつ、実用的で装置の全体構成を小型化したロバスト性の高い深紫外レーザー装置を提供する。【解決手段】第1の光源よりパルス出力される波長1064〜1065nmのレーザー光を第1の基本波とし、第1の波長変換手段により上記第1の基本波を波長変換して得た第4高調波を第2の基本波とし、第2の光源よりパルス出力される波長1560〜1570nmのレーザー光を第3の基本波とし、第2の波長変換手段により上記第3の基本波を波長変換して得た第2高調波を第4の基本波とし、和周波発生手段により上記第2の基本波と上記第4の基本波との和周波光である波長198.3〜198.8nmのレーザー光を発生させる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
第1の光源よりパルス出力される波長1064〜1065nmのレーザー光を第1の基本波とし、
第1の波長変換手段により前記第1の基本波を波長変換して得た第4高調波を第2の基本波とし、
第2の光源よりパルス出力される波長1560〜1570nmのレーザー光を第3の基本波とし、
第2の波長変換手段により前記第3の基本波を波長変換して得た第2高調波を第4の基本波とし、
和周波発生手段により前記第2の基本波と前記第4の基本波との和周波光である波長198.3〜198.8nmのレーザー光を発生させる
ことを特徴とする深紫外レーザー装置。
IPC (3):
G02F 1/37
, H01S 3/06
, H01S 3/10
FI (4):
G02F1/37
, H01S3/06 B
, H01S3/10 C
, H01S3/10 A
F-Term (10):
2K002AA04
, 2K002AB12
, 2K002AB27
, 2K002BA03
, 2K002BA04
, 2K002CA02
, 2K002HA18
, 2K002HA20
, 5F172NR22
, 5F172NR24
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
紫外レーザ装置及び半導体露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-152394
Applicant:株式会社ニコン
-
レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-258124
Applicant:株式会社ニコン, 古河電気工業株式会社
Cited by examiner (4)
-
光源装置及び光照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-189435
Applicant:株式会社ニコン
-
波長変換装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-054119
Applicant:サイバーレーザー株式会社
-
レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-258124
Applicant:株式会社ニコン, 古河電気工業株式会社
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page