水処理方法および水処理システム

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：大胡典夫 , 竹花喜久男 , 宇治弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004106773
Publication number (International publication number)：2005288309
Application date： Mar. 31, 2004
Publication date： Oct. 20, 2005
Summary：

【課題】原水中の臭気物質濃度と共存する溶解性有機物質濃度とを測定し、臭気物質の除去に必要な粉末活性炭注入率を、共存する溶解性有機物の影響を考慮して決定することにより、過不足無く粉末活性炭注入を行なうことができる水処理方法および水処理システムを提供すること。【解決手段】被処理水中の臭気物質の濃度と共存する有機物質の濃度をそれぞれ測定装置11,13で測定し、粉末活性炭注入演算装置7では、これら臭気物質および有機物質の、粉末活性炭注入時の残存率に影響を与える係数をそれぞれ求め、必要な前記粉末活性炭の注入率を求めているので、共存する有機物質の影響を受けることなく臭気物質を有効に除去することができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被処理水に粉末活性炭を注入し、被処理水中の溶解性有機物質を除去する水処理方法であって、被処理水中の臭気物質の濃度と共存する有機物質の濃度をそれぞれ測定し、これら臭気物質および有機物質の、前記粉末活性炭注入に伴うそれらの残存率に影響を与える係数を、前記測定された臭気物質濃度および有機物質濃度に基づいてそれぞれ求め、予め求めた臭気物質の目標除去率を達成するに必要な前記粉末活性炭の注入率を、前記各係数及び滞留時間の関数として求めることを特徴とする水処理方法。

IPC (2)：

C02F1/28 , G01N21/64

FI (2)：

C02F1/28 D , G01N21/64 Z

F-Term (20)：

2G043AA01 , 2G043BA14 , 2G043CA03 , 2G043DA05 , 2G043EA01 , 2G043KA02 , 2G043KA03 , 2G043KA05 , 2G043NA11 , 4D024AA01 , 4D024AB04 , 4D024BA02 , 4D024BB01 , 4D024BC04 , 4D024DA01 , 4D024DA03 , 4D024DA04 , 4D024DB03 , 4D024DB12 , 4D024DB21

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

除去物質測定装置および活性炭注入判断装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-164098 Applicant：株式会社明電舎
浄水場の薬剤注入制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-115457 Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (4)

蛍光分析計を用いた水処理制御システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-238225 Applicant：株式会社東芝
水質検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-092612 Applicant：株式会社東芝
浄水場の薬剤注入制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-115457 Applicant：株式会社日立製作所

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