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J-GLOBAL ID：200903025815656260

パターンマッチング法における登録パターンの中心座標データの補正データを演算する演算装置及びそれを用いるレーザ描画装置

Inventor：
奥山 隆志

About 奥山 隆志


Applicant, Patent owner：
旭光学工業株式会社

About 旭光学工業株式会社


Agent (1)： 松浦 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996334490
Publication number (International publication number)：1998162145
Application date： Nov. 29, 1996
Publication date： Jun. 19, 1998
Summary：
【要約】【課題】 パターンマッチング法における登録パターンの中心と登録ウィンドウの中心とのずれ量データを容易に求めて該登録パターンの中心座標データを正確に演算し、一方その演算結果に基づいてレーザ描画作動を効率的に行う。【解決手段】 登録ウィンドウを用いて点対称な位置決めマークと相似形のパターンをメモリに登録し、任意の座標系に位置した点対称な位置決めマークから得られる位置決めマークパターンに対して登録パターンを用いてパターンマッチングしてその仮の中心座標データを求め、登録パターンを180 度半回転させて登録半回転パターンを作成し、位置決めマークパターンに対して登録半回転パターンを用いてパターンマッチングしてその仮の中心座標データを求め、登録パターンの仮の中心座標データと登録半回転パターンの仮の中心座標データとに基づいて登録パターンの真の中心座標データを演算して補正データを演算する。
Claim (excerpt)：
パターンマッチング法における登録パターンの中心座標データの補正データを演算する演算装置であって、登録ウィンドウを用いて点対称なパターンを登録パターンとしてメモリに登録する登録パターン作成手段と、前記点対称なパターンと相似形でかつ任意の座標系に位置したパターンに対して前記登録パターンを用いてパターンマッチング法を実行することによって該登録パターンの仮の中心座標データを求める第1の演算手段と、前記登録パターンを前記登録ウィンドウの中心回りで180 度半回転させて登録半回転パターンとしてメモリに登録する登録半回転パターン作成手段と、前記点対称なパターンと相似形でかつ任意の座標系に位置したパターンに対して前記登録半回転パターンを用いてパターンマッチング法を実行することによって該登録半回転パターンの仮の中心座標データを求める第2の演算手段と、前記第1の演算手段で得られた前記登録パターンの仮の中心座標データと前記第2の演算手段で得られた前記登録半回転パターンの仮の中心座標データとに基づいて前記登録ウィンドウの中心に対する前記登録パターンの中心のずれ量データを求める第3の演算手段とを具備して成る演算装置。
IPC (2)：
G06T 7/00 ,  G03F 1/08
FI (3)：
G06F 15/70 455 Z ,  G03F 1/08 A ,  G06F 15/62 405 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • 特開平4-361104
  • 特開平4-326479
  • 特開平4-361104
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