支持型酸化物触媒の製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：曾我道照 , 曾我道治 , 古川秀利 , 鈴木憲七 , 梶並順 , 大宅一宏
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2005500802
Publication number (International publication number)：2006527065
Application date： Jun. 13, 2003
Publication date： Nov. 30, 2006
Summary：

本発明は、活性相の一様分布ならびに細孔サイズ全体の制御を伴う均一および制御多孔性の両方を有する触媒を達成するための、触媒的適用のための高品質多孔性支持物質の製造方法を開示する。1つまたは複数の可溶性の活性相前駆体は水または有機溶媒中の不溶性支持相からなるスラリーに付加され、スラリーは破砕されて支持相の粒子サイズを50μm未満に縮小し、加工助剤が破砕の前または後に付加され、細孔形成剤が付加され、スラリーは噴霧乾燥され、圧縮されて細孔形成剤の除去のために熱処理に付される。

Claim (excerpt)：

触媒的適用のための多孔性支持物質の製造方法であって、1つまたは複数の可溶性活性相前駆体(単数または複数)が水または有機溶媒中の不溶性支持相から成るスラリーに付加され、該スラリーが破砕されて、支持相の粒子サイズを50μm未満に縮小し、加工助剤が破砕の前後に付加され、細孔形成剤が付加され、該スラリーが噴霧乾燥され、圧縮されて、細孔形成剤の除去のために熱処理に付される方法。

IPC (6)：

B01J 23/76 , B01J 23/755 , B01J 32/00 , B01J 37/00 , B01J 37/08 , B01D 53/86

FI (6)：

B01J23/76 A , B01J23/74 321M , B01J32/00 , B01J37/00 C , B01J37/08 , B01D53/36 E

F-Term (74)：

4D048AA07 , 4D048AA08 , 4D048AB01 , 4D048BA01Y , 4D048BA03X , 4D048BA06Y , 4D048BA07Y , 4D048BA08Y , 4D048BA15Y , 4D048BA16Y , 4D048BA18Y , 4D048BA19X , 4D048BA35Y , 4D048BA36Y , 4D048BA37Y , 4D048BA41X , 4D048BA42X , 4D048BB01 , 4G169AA01 , 4G169AA03 , 4G169AA05 , 4G169AA08 , 4G169AA12 , 4G169BA01A , 4G169BA01B , 4G169BA02A , 4G169BA04A , 4G169BA05A , 4G169BA29C , 4G169BB04A , 4G169BB04B , 4G169BB06A , 4G169BB06B , 4G169BB10C , 4G169BB12C , 4G169BC08A , 4G169BC10A , 4G169BC16A , 4G169BC16B , 4G169BC17A , 4G169BC29A , 4G169BC31A , 4G169BC35A , 4G169BC42A , 4G169BC43A , 4G169BC43B , 4G169BC44A , 4G169BC66A , 4G169BC67A , 4G169BC67B , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169BC70A , 4G169BC71A , 4G169BC75A , 4G169BE08C , 4G169BE11C , 4G169CA07 , 4G169CA13 , 4G169CA17 , 4G169CC17 , 4G169EA02X , 4G169EA02Y , 4G169EB18X , 4G169EB18Y , 4G169FA01 , 4G169FA02 , 4G169FB15 , 4G169FB33 , 4G169FB36 , 4G169FB57 , 4G169FB64 , 4G169FC05 , 4G169FC07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

特開平1-254254
特開平4-298234
特開平1-254254

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