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J-GLOBAL ID：200903025922989190

光学的立体造形方法

Inventor：
大川 和夫

About 大川 和夫

, 
近岡 里行

About 近岡 里行


Applicant, Patent owner：
旭電化工業株式会社

About 旭電化工業株式会社


Agent (1)： 本多 一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998234127
Publication number (International publication number)：2000062030
Application date： Aug. 20, 1998
Publication date： Feb. 29, 2000
Summary：
【要約】【課題】 酸素による硬化阻害が起こらず、硬化時の精度が良く、余剰硬化部も小さく、容易に所望の寸法の造形物を得ることができ、しかも照射エネルギーに対して高感度で、硬化深度が十分であり層剥離のない、光学的立体造形用樹脂組成物を用いた光学的立体造形方法を提供する。【解決手段】 必須の構成成分として、(1)カチオン重合性有機化合物と、(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤として、芳香族スルホニウム塩化合物と、を含有する光学的立体造形用樹脂組成物の任意の表面に、250〜400nmの波長間の光の総合計エネルギー量に対して345〜360nmの波長間の光の合計エネルギー量が70%以上である光を照射し、該樹脂組成物の光照射表面を硬化させて所望の厚さの硬化層を形成し、該硬化層上に前述の光学的立体造形用樹脂組成物をさらに供給して、これを同様に硬化させ前述の硬化層と連続した硬化物を得る積層操作を行ない、この操作を繰り返すことによって三次元の立体物を得る。
Claim (excerpt)：
必須の構成成分として、(1)カチオン重合性有機化合物と、(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤として下記式、(式中、Y1、Y2は同一でも異なっていてもよい水素原子、ハロゲン原子、あるいは酸素原子、またはハロゲン原子を含んでいてもよい炭化水素基、もしくは置換基がついていてもよいアルコキシ基、Arは1以上の水素原子が置換されていてもよいフェニル基、陰イオンA-は[LXb-a(OH)a]-で表わされ、ここで、Lはホウ素原子、リン原子、ヒ素原子およびアンチモン原子からなる群から選ばれ、Xはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選ばれ、またaは0か1、bは3から7までの整数で、Lの原子価をpとしたときb-p=1となる数である)で表わされる芳香族スルホニウム塩化合物と、を含有する光学的立体造形用樹脂組成物の任意の表面に、250〜400nmの波長間の光の総合計エネルギー量に対して345〜360nmの波長間の光の合計エネルギー量が70%以上である光を照射し、該樹脂組成物の光照射表面を硬化させて所望の厚さの硬化層を形成し、該硬化層上に前述の光学的立体造形用樹脂組成物をさらに供給して、これを同様に硬化させ前述の硬化層と連続した硬化物を得る積層操作を行ない、この操作を繰り返すことによって三次元の立体物を得ることを特徴とする光学的立体造形方法。
IPC (2)：
B29C 67/00 ,  B29K105:24
F-Term (11)：
4F213AA34 ,  4F213AA44 ,  4F213AB04 ,  4F213WA25 ,  4F213WB01 ,  4F213WL03 ,  4F213WL13 ,  4F213WL23 ,  4F213WL25 ,  4F213WL44 ,  4F213WL95
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (3)

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