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J-GLOBAL ID：200903025933689628

多孔質層を有する積層体及びその製造方法、並びに多孔質膜及びその製造方法

Inventor：
大和 洋

About 大和 洋


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 岡田 正広
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007246204
Publication number (International publication number)：2009073124
Application date： Sep. 21, 2007
Publication date： Apr. 09, 2009
Summary：
【課題】空孔特性に優れ、柔軟性を有し、しかも取扱性及び成形加工性に優れた多孔質層を有する積層体、及び単層からなる多孔質膜、及びそれらの製造方法を提供する。【解決手段】基材と、前記基材の少なくとも片面上の高分子で構成されている多孔質層とを含む積層体であって、前記多孔質層における微小孔の平均孔径が0.01〜10μmであり、空孔率が30〜80%であり、前記微小孔は、連通性の低い独立微小孔である、積層体。高分子で構成されている多孔質膜であって、前記多孔質膜における微小孔の平均孔径が0.01〜10μmであり、空孔率が30〜80%であり、前記多孔質膜の厚みが5〜200μmであり、且つガーレー値で表して30秒/100cc以上の透気度を有する、多孔質膜。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
基材と、前記基材の少なくとも片面上の高分子で構成されている多孔質層とを含む積層体であって、 前記多孔質層における微小孔の平均孔径が0.01〜10μmであり、空孔率が30〜80%であり、前記微小孔は、連通性の低い独立微小孔である、積層体。
IPC (1)：
B32B 5/18
FI (1)：
B32B5/18
F-Term (48)：
4F100AA33E ,  4F100AB01A ,  4F100AB01D ,  4F100AB04A ,  4F100AB16E ,  4F100AB18A ,  4F100AB21A ,  4F100AB24E ,  4F100AB25A ,  4F100AB33A ,  4F100AD11E ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK25B ,  4F100AK41A ,  4F100AK41B ,  4F100AK45A ,  4F100AK45B ,  4F100AK47A ,  4F100AK47B ,  4F100AK49A ,  4F100AK49B ,  4F100AK50A ,  4F100AK50B ,  4F100AK54A ,  4F100AK54B ,  4F100AK55A ,  4F100AK55B ,  4F100AK57A ,  4F100AK57B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100DC11A ,  4F100DG12A ,  4F100DG15A ,  4F100DJ00B ,  4F100DJ02B ,  4F100EH71D ,  4F100GB41 ,  4F100HB31E ,  4F100JB01C ,  4F100JG01E ,  4F100YY00B
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (2)
  • 多孔質膜の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-295151   Applicant：日東電工株式会社
  • 表面多孔体の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-165763   Applicant：財団法人川村理化学研究所

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