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J-GLOBAL ID：200903026040212943

マクロ検査装置及びプロセスモニタリング方法

Inventor：
神津 尚士

About 神津 尚士


Applicant, Patent owner：
オリンパス光学工業株式会社

About オリンパス光学工業株式会社


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997018693
Publication number (International publication number)：1998221040
Application date： Jan. 31, 1997
Publication date： Aug. 21, 1998
Summary：
【要約】【課題】 一枚単位では検出できない欠陥を検出したり、また良品基板しか流れていない場合でも、プロセスの微妙な変調を統計的に捕まえて欠陥の発生を時前に予測し欠陥発生を回避させる。【解決手段】 照明手段21,41及び撮像手段29を有し、製造プロセスからの検査対象27を撮像し、その撮像結果を処理するマクロ検査装置において、撮像手段に取り込まれた検査対象の画像M1を加算蓄積させて加算蓄積画像M4を作成する画像処理手段31と、加算蓄積画像における濃度分布を統計処理し、その処理結果を解析することで、製造プロセスの良否を判定するプロセスモニタリング手段33とを備えたマクロ検査装置。
Claim (excerpt)：
照明手段及び撮像手段を有し、製造プロセスからの検査対象を撮像し、その撮像結果を処理するマクロ検査装置において、前記撮像手段に取り込まれた前記検査対象の画像を加算蓄積させて加算蓄積画像を作成する画像処理手段と、前記加算蓄積画像における濃度分布を統計処理し、その処理結果を解析することで、製造プロセスの良否を判定するプロセスモニタリング手段とを備えたことを特徴とするマクロ検査装置。
IPC (4)：
G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/66
FI (4)：
G01B 11/30 C ,  G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 J ,  G06F 15/62 405 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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