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J-GLOBAL ID:200903026135787552
有機薄膜の低圧蒸着
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
浅村 皓 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000521253
Publication number (International publication number):2001523768
Application date: Nov. 16, 1998
Publication date: Nov. 27, 2001
Summary:
【要約】基体58上に有機薄膜を形成する方法であって、その方法は、複数の有機前駆物質(14、48)を気相で与え、前記複数の有機前駆物質(14、48)を減圧下で反応させる工程を有する。そのような方法により製造された薄膜及びそのような方法を実施するのに用いられる装置も含む。本方法は、有機発光デバイスの形成及び他のディスプレイ関連技術によく適している。
Claim (excerpt):
基体上に有機薄膜を形成する方法において、 複数の有機前駆物質を気相で与え、 基体を存在させて、大気の常態値以下の圧力で前記複数の有機前駆物質を反応させ、該基体上に薄膜を形成する、諸工程を有する、上記方法。
IPC (3):
C23C 16/00
, H05B 33/10
, H05B 33/14
FI (3):
C23C 16/00
, H05B 33/10
, H05B 33/14 A
F-Term (27):
3K007AB03
, 3K007BA07
, 3K007CA01
, 3K007CA06
, 3K007CB01
, 3K007DA00
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 4K030AA09
, 4K030AA16
, 4K030AA24
, 4K030BA61
, 4K030EA01
, 4K030EA06
, 4K030GA06
, 4K030GA12
, 4K030GA14
, 4K030JA09
, 4K030KA09
, 4K030KA23
, 4K030KA26
, 4K030KA28
, 4K030KA39
, 4K030KA41
, 4K030LA01
, 4K030LA18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
特開昭63-307255
-
全方向同時蒸着重合装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-323808
Applicant:日本真空技術株式会社
-
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-028659
Applicant:出光興産株式会社
-
成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-087215
Applicant:ソニー株式会社
-
特開平4-045259
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