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J-GLOBAL ID：200903026159186053

光反応性無機顔料の不動態化方法及び光安定性の化粧料又は医薬組成物

Inventor： レヴエツク ジヤン-ルツク ,  ルロイ フレデリツク ,  メルル ミリアン ,  デユボール ヨランダ
Applicant, Patent owner： ロレアル
Agent (1)： 八木田 茂 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996208096
Publication number (International publication number)：1997157542
Application date： Aug. 07, 1996
Publication date： Jun. 17, 1997
Summary：

【要約】【課題】 光反応性無機顔料及びそれを含有する化粧料又は医薬組成物の色の変化を防止又は軽減する。【解決手段】 光反応性無機顔料をC1〜C4の炭化水素、C1〜C4のハロゲン化炭化水素又はC1〜C4の多ハロゲン化炭化水素の中から選択される有機ガスの低温プラズマを使用して不動態化処理し、またこのようにして不動態化された無機顔料を化粧料又は医薬組成物に使用する。

Claim (excerpt)：

光反応性無機顔料を有機ガスの低温プラズマを使用して不動態化処理することからなる、光反応性無機顔料の不動態化方法。

IPC (8)：

C09C 3/08 PBU ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/42 ,  A61K 47/02 ,  C01B 11/00 ,  C01G 9/02 ,  C01G 23/04

FI (9)：

C09C 3/08 PBU ,  A61K 7/00 B ,  A61K 7/00 V ,  A61K 7/02 P ,  A61K 7/42 ,  A61K 47/02 J ,  C01B 11/00 ,  C01G 9/02 ,  C01G 23/04 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 大気圧プラズマ反応の利用方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-273030   Applicant：株式会社きもと, キモトテツクインコーポレイテツド, 岡崎幸子, 小駒益弘
• 超微粒子の表面処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-289036   Applicant：イーシー化学株式会社, 伊藤忠ファインケミカル株式会社