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J-GLOBAL ID:200903026369309425
水素貯蔵体とその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000121728
Publication number (International publication number):2001302224
Application date: Apr. 21, 2000
Publication date: Oct. 31, 2001
Summary:
【要約】【課題】 軽量なために移動が容易で、優れた水素貯蔵能を有し、容易に製造がすることができる新規な水素貯蔵体と、その製造方法を提供する。【解決手段】 機械的粉砕によってナノ構造化されたグラファイトに水素を貯蔵させる。
Claim (excerpt):
グラファイト内に、共有結合によってもしくは共有結合を伴わずに水素を貯蔵させることを特徴とする水素貯蔵体。
IPC (3):
C01B 31/04 101
, B01J 20/20
, C01B 3/00
FI (3):
C01B 31/04 101 B
, B01J 20/20 B
, C01B 3/00 B
F-Term (19):
4G040AA22
, 4G040AA36
, 4G040AA42
, 4G046CA00
, 4G046CB02
, 4G046CB08
, 4G046CC02
, 4G066AA04B
, 4G066BA09
, 4G066BA20
, 4G066BA26
, 4G066BA32
, 4G066CA38
, 4G066DA05
, 4G066EA20
, 4G066FA17
, 4G066FA33
, 4G066FA35
, 4G066GA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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水素貯蔵体とその製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-282321
Applicant:松下電器産業株式会社, 科学技術振興事業団
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水素吸蔵炭素
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-278767
Applicant:株式会社東芝
Article cited by the Patent:
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