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J-GLOBAL ID：200903017821569082

ハーフトーン型位相シフトマスク

Inventor：
大久保 靖

About 大久保 靖


Applicant, Patent owner：
ホーヤ株式会社

About ホーヤ株式会社


Agent (1)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993068550
Publication number (International publication number)：1994282063
Application date： Mar. 26, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：
【要約】【目的】 ステッパーのレティクルとして用いた場合に、ステッパーのアパーチャーの光通過領域と、レティクルたる位相シフトマスクの転写領域との間に多少のずれがあっても、このずれに基づく露光の欠陥が生ずることを防止することができるハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。【構成】 透明基板2の全面に実質的に露光に寄与しない強度の露光光を透過させると同時に通過する光の位相をシフトさせる半透光膜5を形成し、透明基板2の中央部においてこの半透光膜5の一部を除去して透光部6と半透光部7とで構成するマスクパターンを形成し、半透光部7を通過した光の位相と透光部6を通過した光の位相とを異ならしめて透光部と半透光部との境界部近傍を通過した光が互いに打ち消しあうようにして境界部のコントラストを良好に保持できるようにしたハーフトーン型位相シフトマスク1において、透明基板2上の外周周辺に残された半透光膜5の上であって、マスクパターン転写領域Iと非転写領域との境界に隣接する非転写領域に、所定以上の幅を有する遮光部8を形成した。
Claim (excerpt)：
微細パターン転写用のマスクであって、透明基板上の転写領域に形成するマスクパターンを、実質的に露光に寄与する強度の光を透過させる透光部と実質的に露光に寄与しない強度の露光光を透過させる半透光部とで構成し、かつこの半透光部を通過する光の位相をシフトさせて該半透光部を通過した光の位相と前記透光部を通過した光の位相とを異ならしめることにより、前記透光部と半透光部との境界部近傍を通過した光が互いに打ち消しあうようにして境界部のコントラストを良好に保持できるようにしたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、前記マスクパターン転写領域と非転写領域との境界に隣接する非転写領域を実質的に露光に寄与しない強度の露光光を透過させる半透光部とし、かつ、この非転写領域の半透光部に所定以上の幅を有する遮光部を設けたことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (2)：
H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (8)
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