シリコン物品表面の清浄化方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：塩澤寿夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998057170
Publication number (International publication number)：1999260787
Application date： Mar. 09, 1998
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】半導体デバイスの物性に対する影響が懸念されている幾つかの金属イオンについて、シリコンウエハ等のシリコン物品上に残存する量を低減できる、超純水を使用するシリコン物品の洗浄方法を提供すること。【解決手段】シリコン物品の表面を洗浄液及びリンス液で順次処理することを含むシリコン物品表面の清浄化方法であって、超純水をユースポイント直前で、膜内部にイオン交換機能を有する高分子鎖が保持されている多孔膜であって、膜1g当たり0.2〜10ミリ当量のイオン交換基を有し、平均孔径0.01〜1μmの多孔膜を充填したモジュールでさらに処理した水を、前記洗浄液の調製液及び/又は前記リンス液として用いる方法。

Claim (excerpt)：

シリコン物品の表面を洗浄液及びリンス液で順次処理することを含むシリコン物品表面の清浄化方法であって、超純水をユースポイント直前で、膜内部にイオン交換機能を有する高分子鎖が保持されている多孔膜であって、膜1g当たり0.2〜10ミリ当量のイオン交換基を有し、平均孔径0.01〜1μmの多孔膜を充填したモジュールでさらに処理した水(以下、再処理超純水という)を、前記洗浄液の調製液及び/又は前記リンス液として用いることを特徴とする方法。

IPC (4)：

H01L 21/304 648 , B08B 3/08 , C02F 1/42 , C11D 17/08

FI (4)：

H01L 21/304 648 F , B08B 3/08 Z , C02F 1/42 Z , C11D 17/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ユースポイントモジュールシステム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-226312 Applicant：旭化成工業株式会社
シリコンウェーハの洗浄液およびその洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-336612 Applicant：三菱マテリアル株式会社, 三菱マテリアルシリコン株式会社

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