処理システム及びこれを用いたデバイス製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：丸島儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994101006
Publication number (International publication number)：1995086156
Application date： May. 16, 1994
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】複数のチャンバを備えた処理システムにおいて、高精度な露光処理などの処理が可能とすること。【構成】それぞれ処理装置を内蔵する減圧可能なプロセスチャンバ1及びロードロックチャンバ2と、それぞれのチャンバに内蔵される処理装置同士を結合する結合部材6cとを有し結合部材6cと各チャンバ1,2とが弾性気密保持手段であるベローズ10cによって気密に封止されている。

Claim (excerpt)：

それぞれ処理装置を内蔵し内部を気密に保ち得る第1及び第2チャンバと、各チャンバに内蔵されるそれぞれの処理装置同士を結合する結合部材とを有し結合部材と第1及び第2チャンバとの間が弾性気密保持手段によって気密に封止されていることを特徴とする処理システム。

IPC (3)：

H01L 21/027 , C23C 14/56 , H01L 21/205

FI (2)：

H01L 21/30 503 Z , H01L 21/30 531 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開昭63-164243
特開昭63-080531
特開平2-093139

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