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J-GLOBAL ID：200903027064032667

処理装置

Inventor： 立山 清久 ,  岩崎 達也 ,  松田 義隆
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 金本 哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998173946
Publication number (International publication number)：1999354618
Application date： Jun. 05, 1998
Publication date： Dec. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 基板に対する均一な熱処理が可能な処理装置を提供する。【解決手段】 プロキシミティピン51に支持されたLCD基板Gを輻射熱により加熱処理する。プロキシミティピン51を,LCD基板Gの裏面を支持する支持部52と,支持部52を固定自在な基台部53とで構成する。支持部52を細く形成することで,支持部52によって遮られる輻射熱が従来よりも減少する。

Claim (excerpt)：

載置台に設けられた支持部材に基板を支持させた状態で,前記載置台からの輻射熱により当該基板を加熱処理する処理装置において,前記支持部材は,基板を支持する支持部と,該支持部を載置台に取り付ける基台部とから構成されており,前記支持部は,基板に対する輻射熱の伝搬を妨げにくい形状に形成されたことを特徴とする,処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/68 ,  F26B 3/28 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/027

FI (4)：

H01L 21/68 N ,  F26B 3/28 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/30 567

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ホットプレート型のプロキシミティベーク炉に使用するピン及びそれを使用した炉
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-338058   Applicant：シャープ株式会社, デュポンアジアパシフィックリミテッド
• 温度調整装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-292835   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 基板光照射処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-265851   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社