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J-GLOBAL ID:200903027163841666

光学的素子の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 逢坂 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996080813
Publication number (International publication number):1997245964
Application date: Mar. 08, 1996
Publication date: Sep. 19, 1997
Summary:
【要約】【課題】 大気中でも良好な安定性を示し、長寿命の光学的素子の製造方法を提供すること。【解決手段】 発光層を含む有機層2、3、4の積層体上に設けた金属電極1の上に、導電性封止膜7及び絶縁性封止膜8を順次に成膜し、これらの成膜を前記有機層2、3、4及び金属電極1と同じ真空蒸着装置11の中で連続して行う。
Claim (excerpt):
発光領域を含む有機層の積層体上に電極が設けられている光学的素子を製造するに際し、前記電極を真空成膜条件下で形成した後に、この上に、真空を保持したまま少なくとも導電性封止膜を形成する、光学的素子の製造方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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