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J-GLOBAL ID:200903027203235586

露光装置および露光方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 桑井 清一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993345162
Publication number (International publication number):1995183201
Application date: Dec. 21, 1993
Publication date: Jul. 21, 1995
Summary:
【要約】【目的】 光リソグラフ技術において、通常照明方法および斜入射照明方法よりも解像力、焦点深度をさらに向上させる露光方法および露光装置を提供する。【構成】 斜入射露光を、ウェーハ面およびパターン方向に平行な直線偏光を用いて行う。輪帯照明、4点照明等のアパーチャー開口部の対向する部分に、TE偏光波を出すように偏光子を挿入する。または、初めから偏光した光を発振するレーザ光を分割し、斜入射照明用に配置し、偏光を揃えても良い。
Claim (excerpt):
光源からの光線がレチクルに対して斜めに入射される斜め入射手段を有する露光装置にあって、上記光線を直線偏光光とする偏光子を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2):
H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 投影露光装置及び偏光子
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-023743   Applicant:三菱電機株式会社
  • 露光装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-291465   Applicant:株式会社ニコン
  • レチクル及びこれを用いた半導体露光装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-268968   Applicant:富士通株式会社
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