ウエハ欠陥検査装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001351965
Publication number (International publication number)：2003149169
Application date： Nov. 16, 2001
Publication date： May. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】各種の欠陥を検出できる半導体ウエハ用欠陥検査装置を低コストで実現する。【解決手段】ウエハ2上に形成されたパターンの画像を投影する光学系と、投影された画像を画像信号に変換するイメージセンサ4と、画像信号を処理して欠陥部分を検出する信号処理装置5,6,7とを備えるウエハ欠陥検査装置であって、光学系は、対物レンズ3と、投影経路中に設けられた半透鏡58を有し、半透鏡で反射させた照明光を、対物レンズを通して試料上に照射する明視野照明系と、対物レンズの投影経路を除く部分に設けられた反射鏡69を有し、反射鏡で反射させた照明光を、対物レンズを通して試料上に照射する暗視野照明系と、を備える。

Claim (excerpt)：

ウエハ上に形成されたパターンの画像を投影する光学系と、投影された画像を画像信号に変換するイメージセンサと、前記画像信号を処理して欠陥部分を検出する処理装置とを備えるウエハ欠陥検査装置であって、前記光学系は、対物レンズと、該対物レンズの投影経路中に設けられた半透鏡を有し、該半透鏡で反射させた前記対物レンズの光軸を含む範囲の照明光を、前記対物レンズを通して試料上に照射する明視野照明系と、前記対物レンズの投影経路を除く部分に設けられた反射鏡を有し、該反射鏡で反射させた前記対物レンズの光軸の周辺を除く範囲の照明光を、前記対物レンズを通して試料上に照射する暗視野照明系と、を備えることを特徴とするウエハ欠陥検査装置。

IPC (5)：

G01N 21/956 , G02B 21/06 , G02B 21/10 , G02B 21/12 , H01L 21/66

FI (5)：

G01N 21/956 A , G02B 21/06 , G02B 21/10 , G02B 21/12 , H01L 21/66 J

F-Term (26)：

2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051BA01 , 2G051BB01 , 2G051BB05 , 2G051BB07 , 2G051BB11 , 2G051BC01 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CB05 , 2H052AB24 , 2H052AC04 , 2H052AC08 , 2H052AC14 , 2H052AC17 , 2H052AC27 , 2H052AC28 , 2H052AD34 , 2H052AF14 , 4M106AA01 , 4M106BA10 , 4M106CA39 , 4M106DB18 , 4M106DB19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

表面検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-341505 Applicant：株式会社ニデック
特開昭63-186132
特開昭61-120110

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