静電チャックステージ及びその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996215854
Publication number (International publication number)：1998032239
Application date： Jul. 12, 1996
Publication date： Feb. 03, 1998
Summary：

【要約】【課題】半導体製造装置に用いられるシリコンウェハ固定用の静電チャックステージ、特に高温下で使用可能な静電チャックステージを提供する。【解決手段】静電チャック用セラミックス焼結体プレートと、セラミックとアルミニウムとの複合材プレートとを接合した静電チャックステージを提供する。

Claim (excerpt)：

静電チャック用セラミックス焼結体プレートと、セラミックとアルミニウムとの複合材プレートとを接合したことを特徴とする静電チャックステージ。

IPC (2)：

H01L 21/68 , B25J 15/06

FI (2)：

H01L 21/68 R , B25J 15/06 S

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

セラミックス製静電チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-086402 Applicant：信越化学工業株式会社
静電チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-240492 Applicant：株式会社創造科学, 有限会社宮田技研
特開平3-007892

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