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J-GLOBAL ID:200903027764614624

均一磁場発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 平木 祐輔 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998217180
Publication number (International publication number):2000046999
Application date: Jul. 31, 1998
Publication date: Feb. 18, 2000
Summary:
【要約】【課題】 コイルの構造が簡単で、クライオスタットや支持構造等も簡略化できる均一磁場発生装置を提供する。【解決手段】 略相似の2次元形状を有するメインコイル1、トリムコイル2及びシールドコイル3を平面状に配置してコイル群Aとする。同様の構成のコイル群Bをコイル群平面に垂直な方向に間隔をあけて平行に配置する。トリムコイル2とシールドコイル3には、メインコイル1とは逆向きの電流を流す。トリムコイル2によって発生される磁場はメインコイル1の磁場を補正して中心部の均一磁場領域の磁場均一度を高めるように作用し、シールドコイル3によって発生される磁場は外部の漏れ磁場を所定の値以下に低減するように作用する。均一磁場は、2組のコイル群A,Bで挟まれた領域の中央部分に発生される。
Claim (excerpt):
複数のコイルを組み合わせて空間的に均一な磁場を発生する均一磁場発生装置において、平面的に配置された複数のコイルからなるコイル群を用い、前記コイル群で囲まれた領域に空間的に均一な磁場を発生すると共に、前記コイル群の外部の漏れ磁場を所定の値以下に低減することを特徴とする均一磁場発生装置。
IPC (6):
G21K 1/093 ,  A61B 5/055 ,  G01R 33/387 ,  G01R 33/3875 ,  H05H 7/04 ,  H05H 13/00
FI (6):
G21K 1/093 D ,  H05H 7/04 ,  H05H 13/00 ,  A61B 5/05 332 ,  G01N 24/06 520 Y ,  G01N 24/06 520 J
F-Term (14):
2G085AA11 ,  2G085BC04 ,  2G085BC09 ,  4C096AB42 ,  4C096AD08 ,  4C096CA02 ,  4C096CA15 ,  4C096CA22 ,  4C096CA27 ,  4C096CA35 ,  4C096CA36 ,  4C096CA39 ,  4C096CA40 ,  4C096CA52
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
  • 特開平2-174099
  • 特開平2-174099
  • 超電導磁石装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-336023   Applicant:株式会社日立メディコ, 株式会社日立製作所
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