半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：後田春紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004166606
Publication number (International publication number)：2005026674
Application date： Jun. 04, 2004
Publication date： Jan. 27, 2005
Summary：

【課題】半導体ウェハ収納容器内の空気を、清浄化する半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置を提供する。【解決手段】半導体ウェハ収納容器51の底板60に設けられた一方の呼吸口58aから排出される半導体ウェハ収納容器51内の空気を、ファン駆動部1、塵除去フィルター部2と水分・ケミカルガス除去フィルター部3とにより構成されている空気清浄装置Mに吸気し、該空気清浄装置Mにより水分、ケミカルガスおよび塵を除去して清浄空気63として、他方の呼吸口58bから半導体ウェハ収納容器51に強制的に送気して、前記半導体ウェハ収納容器51の空気を循環しながら清浄化して、清浄状態を維持する。【選択図】図7

Claim (excerpt)：

ファンおよびファン駆動装置を備えたファン駆動部、塵除去用フィルターを備えた塵除去フィルター部、水分・ケミカルガス除去フィルター部とが、ケーシング内にそれぞれ設置され、且つ前記ケーシングの上面に吸気ノズルと供給ノズルが突設された空気清浄装置であって、底板に複数個の呼吸口が設けられた半導体ウェハ収納容器を前記空気清浄装置上に載置し、該空気清浄装置上面の吸気ノズルと供給ノズルとが、前記半導体ウェハ収納容器の底板の2個の呼吸口にそれぞれ連結され、空気清浄装置を作動させることにより、一方の呼吸口から排出される半導体ウェハ収納容器内の空気を吸気ノズルより吸気して、前記空気清浄装置により、水分、ケミカルガス、塵を除去して清浄空気とし、且つ前記水分、ケミカルガス、塵が除去された清浄空気を他方の呼吸口から半導体ウェハ収納容器に送気し、半導体ウェハ収納容器内の空気を循環しながら清浄化して、清浄状態を維持することを特徴とする半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置。

IPC (4)：

H01L21/68 , B01D46/00 , F24F7/00 , F24F7/06

FI (4)：

H01L21/68 T , B01D46/00 F , F24F7/00 A , F24F7/06 C

F-Term (13)：

3L058BF09 , 3L058BG03 , 4D058JA13 , 4D058QA01 , 4D058QA03 , 4D058SA04 , 4D058TA02 , 4D058TA03 , 4D058UA25 , 5F031CA02 , 5F031DA08 , 5F031EA14 , 5F031NA13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ウエハポッドの清浄化システム、ウエハポッド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-149574 Applicant：株式会社大林組
基板清浄化方法および基板収納装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-291070 Applicant：有限会社ユーエムエス, 野村マイクロ・サイエンス株式会社

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