ウエハポッドの清浄化システム、ウエハポッド

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：一色健輔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002149574
Publication number (International publication number)：2003347397
Application date： May. 23, 2002
Publication date： Dec. 05, 2003
Summary：

【要約】【課題】ウエハ15を収納するためのウエハポッドの内部を清浄に保つ。【解決手段】ウエハポッド14は、給気穴44、空気流路58,60,ウエハ収納空間54、および、排気穴46を備える。ウエハポッド14がロードポート12上に設置されると、環境制御ユニット20で清浄化された空気が給気ポート42から給気穴44へ供給され、空気流路58からウエハ収納空間54へ導かれて、空気流路60から排気穴46を経て排出される。排気穴46から排出された空気は環境制御ユニット20に吸入される。環境制御ユニット20をインターフェース16に設け、これにより浄化されたインターフェース内の空気をウエハポッドに供給する構成としてもよい。

Claim (excerpt)：

ウエハを収納するためのウエハポッドに、その外部から内部へ空気を供給するための給気穴と、その内部から外部へ空気を排出するための排気穴とを設け、前記ウエハポッドを載置するための載置台に、前記ウエハポッドが載置されると前記給気穴へ清浄な空気を供給する清浄空気供給手段を設けたことを特徴とするウエハポッドの清浄化システム。

IPC (3)：

H01L 21/68 , B08B 5/00 , H01L 21/304 648

FI (3)：

H01L 21/68 T , B08B 5/00 Z , H01L 21/304 648 E

F-Term (18)：

3B116AA21 , 3B116AB51 , 3B116BB72 , 3B116BB88 , 3B116CA03 , 3B116CD11 , 3B116CD22 , 5F031CA02 , 5F031DA08 , 5F031EA18 , 5F031FA01 , 5F031FA03 , 5F031FA15 , 5F031MA23 , 5F031MA27 , 5F031NA02 , 5F031NA14 , 5F031PA24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

局所クリーンシステム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-365914 Applicant：株式会社日立製作所, 日立テクノエンジニアリング株式会社
被処理体の収納装置及び搬出入ステージ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-122862 Applicant：東京エレクトロン株式会社
基板清浄化方法および基板収納装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-291070 Applicant：有限会社ユーエムエス, 野村マイクロ・サイエンス株式会社

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