パターン欠陥検査装置及びレーザ顕微鏡

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉村暁秀 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998106191
Publication number (International publication number)：1999304715
Application date： Apr. 16, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】高い解像度で欠陥検査でき、しかもコントラストが高く微細欠陥も正確に検出できる欠陥検査装置を提供する。【解決手段】光源から発生した検査ビームを第1の対物レンズ(8)により集束して検査すべき試料(9)に投射する。試料(9)を透過したビームをミラー(15)に垂直に入射させ、再び試料(9)に向けて反射する。ミラー(15)で反射した検査ビームは光路を逆行し、第2の対物レンズ(12)により再び集束して試料(9)に投射する。試料を2回透過した光ビームをピンホールを有する光検出器に入射させ、光検出器の出力信号に基づいて欠陥検出を行う。このようにダブルパス方式を利用することにより、一層高い解像度及びコントラストを得ることができる。この結果、微細な透明欠陥も正確に検出でき、しかもハーフトーン型の位相シフトマスクについても欠陥検出することができる。

Claim (excerpt)：

透明基板に形成されたパターンの欠陥を検査するパターン欠陥検査装置であって、光ビームを放出する光源装置と、光源装置からの光ビームを第1の方向に偏向するビーム偏向装置と、偏向された光ビームを集束して検査すべき試料に投射する第1の対物レンズと、検査すべき試料を支持する試料ステージと、前記試料を透過した光ビームを前記試料に向けて反射するミラーと、このミラーからの光ビームを再び集束して試料に投射する第2の対物レンズと、試料を透過した光を受光する光検出器と、この光検出器からの出力信号を処理して欠陥検出信号を発生する欠陥検出回路と、前記試料ステージを少なくとも前記第1の方向と直交する第2の方向に駆動するステージ駆動装置とを具え、前記第2の対物レンズから出射し試料を透過した透過光を前記第1の対物レンズ及びビーム偏向装置を介して光検出器に入射させることを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (2)：

G01N 21/88 , G02B 21/00

FI (2)：

G01N 21/88 E , G02B 21/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-240794 Applicant：株式会社ニコン
特開平3-225207
顕微鏡観察装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-201174 Applicant：レーザーテツク株式会社

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