傾斜材料およびその合成、加工方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：大野精市 , 大野精市
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000216824
Publication number (International publication number)：2002030440
Application date： Jul. 18, 2000
Publication date： Jan. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】均質材料においては、それらが等方性であれ異方性であれ、エッチングの性状はそれらの材料が本質的にもつ性質に依存してしまい、所望する種々の形状を実現するには限界があった。【解決手段】特定の化学物質によるエッチング速度が、最表面から内部にいくにしたがって連続的あるいは段階的に変化している傾斜材料を提供する。この傾斜材料は主体となる材料にそのエッチング速度を変えうる添加物を加え、その添加濃度を連続的あるいは段階的に変化させてある。とくに、主体となる材料を、SiO2を主成分とするガラス材料とし、添加物をフッ素とすることにより、フッ酸水溶液によるエッチング速度が深さ方向に変化した傾斜材料を得ることができる。

Claim (excerpt)：

特定の化学物質によるエッチング速度が、最表面から内部に向かって連続的あるいは段階的に変化していることを特徴とする傾斜材料。

IPC (5)：

C23C 16/40 , C03C 15/00 , C03C 17/02 , H01L 21/3065 , H01L 21/31

FI (5)：

C23C 16/40 , C03C 15/00 Z , C03C 17/02 A , H01L 21/31 C , H01L 21/302 J

F-Term (45)：

4G059AA08 , 4G059AB01 , 4G059AB07 , 4G059AB09 , 4G059AB11 , 4G059AC01 , 4G059CA01 , 4G059CA08 , 4G059CB01 , 4K030AA04 , 4K030AA06 , 4K030AA20 , 4K030BA44 , 4K030CA04 , 4K030CA06 , 4K030CA12 , 4K030FA01 , 4K030JA05 , 4K030KA14 , 4K030KA24 , 4K030KA30 , 4K030KA41 , 5F004AA03 , 5F004DB03 , 5F004DB28 , 5F004EA05 , 5F004EA10 , 5F045AA08 , 5F045AA19 , 5F045AC09 , 5F045AC11 , 5F045AC19 , 5F045AD08 , 5F045DA58 , 5F045EE02 , 5F045EE04 , 5F045EE12 , 5F045EE15 , 5F045EE19 , 5F045EH13 , 5F045EK07 , 5F045GB06 , 5F045GB13 , 5F045HA13 , 5F045HA14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開昭63-131542
絶縁膜の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-144878 Applicant：日本電気株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

フッ素添加がPECVD-SiO2薄膜の構造および光学特性に及ぼす影響

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