ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995125194
Publication number (International publication number)：1996320558
Application date： May. 24, 1995
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【目的】高解像力でかつ解像力の膜厚依存性が小さい、現像ラチチュードが広く、現像残渣が発生しにくく、経時による感光剤の析出やミクロゲルの発生がない(パーティクルの増加のない)極めて優れた保存安定性を有することである。【構成】アルカリ可溶性樹脂、及び直鎖状に芳香環を5つ有しそれぞれの芳香環に水酸基を1個有し両末端の1つ内側の芳香環上の水酸基の5位に置換基を有する特定構造のポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(および/または-4-)スルフォン酸エステルを含有する。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂および下記一般式〔I〕あるいは一般式〔II〕で表わされるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(および/または-4-)スルフォン酸エステルを少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1 、R2 、R1 ′、R2 ′;同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、シクロアルキル基、R3 、R4 、R3 ′、R4 ′;同一でも異なっていてもよく、アルキル基、ハロゲン原子R5 、R6 、R5 ′、R6 ′;同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基R7 、R8 、R7 ′、R8 ′;同一でも異なっていてもよく、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、シクロアルキル基R9 、R10、R9 ′、R10′;同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、R11、R11′;シクロアルキル基k〜n;0〜3の整数を表わす。

IPC (2)：

G03F 7/023 501 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/023 501 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-346400 Applicant：住友化学工業株式会社
特開昭59-121043
特開平3-058049

Show all

Return to Previous Page