分光法を用いたプレートアッセイ

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004236868
Publication number (International publication number)：2006030155
Application date： Jul. 20, 2004
Publication date： Feb. 02, 2006
Summary：

【課題】分光法を用いたプレートアッセイ方法を提供する。【解決手段】 (1)被測定化合物を基板表面に固定配置し、被測定化合物に対して特異的に反応して結合を形成する官能基を有する化合物が表面に吸着あるいは結合してなるプラズモン吸収を有する金属粒子を被測定化合物に作用せしめて、基板にエネルギーを照射しそのプラズモン吸収のエネルギーを計測することによって被測定化合物を検出およびまたは定量分析する、および(2)プラズモン吸収を有する金属粒子に被測定化合物が粒子表面に吸着あるいは結合してなる金属粒子を基板表面に固定配置されてなる被測定化合物に対して特異的に反応して結合を形成する官能基とを作用せしめて、基板にエネルギーを照射しそのプラズモン吸収のエネルギーを計測することによって、被測定化合物を検出およびまたは定量分析する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

被測定化合物を基板表面に固定配置し、被測定化合物に対して特異的に反応して結合を形成する官能基を有する化合物が表面に吸着およびまたは結合してなるプラズモン吸収を有する金属粒子を被測定化合物に作用せしめて、基板にエネルギーを照射しそのプラズモン吸収のエネルギーを計測することによって、被測定化合物を検出およびまたは定量分析する方法。

IPC (7)：

G01N 21/27 , C12Q 1/68 , G01N 33/53 , G01N 33/543 , G01N 33/547 , G01N 33/553 , C12N 15/09

FI (9)：

G01N21/27 C , C12Q1/68 A , G01N33/53 D , G01N33/53 M , G01N33/543 525U , G01N33/543 595 , G01N33/547 , G01N33/553 , C12N15/00 F

F-Term (37)：

2G043AA01 , 2G043BA16 , 2G043CA03 , 2G043DA01 , 2G043EA03 , 2G043GA07 , 2G043GB28 , 2G043KA01 , 2G043LA01 , 2G059AA01 , 2G059BB12 , 2G059CC16 , 2G059DD01 , 2G059EE01 , 2G059EE03 , 2G059FF11 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH03 , 2G059KK01 , 4B024AA11 , 4B024AA19 , 4B024CA01 , 4B024CA09 , 4B024HA14 , 4B063QA01 , 4B063QQ21 , 4B063QQ41 , 4B063QQ79 , 4B063QQ96 , 4B063QR32 , 4B063QR50 , 4B063QR55 , 4B063QR63 , 4B063QR83 , 4B063QS39 , 4B063QX02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

リソグラフィ・マスクの設計および基板上での多様なプローブの合成
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-333828 Applicant：アフィメトリックス・インコーポレーテッド
リソグラフィ・マスクの設計および基板上での多様なプローブの合成
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平10-527970 Applicant：アフィメトリックス・インコーポレーテッド
特許3272365公報

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