Pat
J-GLOBAL ID:200903028590138484

薄膜コンデンサ内蔵型モジュール

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須田 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995186715
Publication number (International publication number):1997035997
Application date: Jul. 24, 1995
Publication date: Feb. 07, 1997
Summary:
【要約】【課題】 実装されるLSIがC-MOS系のLSIの場合にその電気特性に問題を起こすことなく電源ノイズを抑制し得る。高容量で非常に信頼性の高い薄膜コンデンサを内蔵でき、実装面積を広くし得る。【解決手段】 薄膜コンデンサ内蔵型モジュール15は、モジュール用基板10上に薄膜コンデンサ13と薄膜多層回路14が設けられる。モジュール用基板10がAlN、Al2O3又はSiCのセラミック焼結体11と、このセラミック焼結体11の表面に設けられたガラス層12とを備える。
Claim (excerpt):
モジュール用基板(10)上に薄膜コンデンサ(13)が設けられ、前記薄膜コンデンサ(13)上に薄膜多層回路(14)が設けられた薄膜コンデンサ内蔵型モジュール(15)であって、前記モジュール用基板(10)がAlN、Al2O3又はSiCのセラミック焼結体(11)と、前記セラミック焼結体(11)の表面に設けられたガラス層(12)とを備えたことを特徴とする薄膜コンデンサ内蔵型モジュール。
IPC (7):
H01G 4/33 ,  C04B 41/89 ,  H01L 25/00 ,  H01L 27/01 311 ,  H05K 1/03 610 ,  H05K 1/16 ,  H05K 3/46
FI (7):
H01G 4/06 102 ,  C04B 41/89 Z ,  H01L 25/00 B ,  H01L 27/01 311 ,  H05K 1/03 610 E ,  H05K 1/16 D ,  H05K 3/46 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 半導体チップキャリアおよびその製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-342718   Applicant:株式会社日立製作所
  • 特開平4-211191
  • 複合集積回路部品
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-191299   Applicant:ティーディーケイ株式会社, 株式会社半導体エネルギー研究所

Return to Previous Page