Pat
J-GLOBAL ID:200903028643464435
X線回折要素及びその製造方法
Inventor:
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
,
Agent (1):
青山 葆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997293891
Publication number (International publication number):1999133190
Application date: Oct. 27, 1997
Publication date: May. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】 発散X線源から出たX線を効率よく集光することができる新たなX線回折要素を提供して、集光点におけるX線強度をより強くする。【解決手段】 発散X線源からのX線を集光するX線集光装置に使用する、X線をブラッグ反射する結晶面により構成されたX線回折面を有して成るX線回折要素において、X線回折面は、X線源およびX線を集めるべき点を両焦点とする楕円の式を補正した式:y=b(1-x2/a2)1/2+xn/k(尚、a=(b2+L2/4)1/2、b=L・tanθ/2、Lは両焦点間の距離、θはブラッグ角、nは例えば5、kは例えば109である。)により表される曲線の一部分を両焦点を通過する直線を回転軸として回転させることにより得られる回転体の表面の一部分を構成する。
Claim (excerpt):
発散X線源からのX線を集光するX線集光装置に使用する、X線をブラッグ反射する結晶面により構成されたX線回折面を有して成るX線回折要素であって、X線回折面は、X線源およびX線を集めるべき点を両焦点とする楕円の式:y=b(1-x2/a2)1/2(式中、a=(b2+L2/4)1/2、b=L・tanθ/2であり、Lは両焦点間の距離、θはブラッグ角である。)に補正項としてxn/kを加えた式:y=b(1-x2/a2)1/2+xn/k(式中、nは正の整数であり、kは0より大きい任意の数である。)により表される曲線の少なくとも一部分を両焦点を通過する直線(即ち、x軸)を回転軸として回転させることにより得られる回転体の表面の少なくとも一部分を実質的に構成することを特徴とするX線回折要素。
FI (3):
G21K 1/06 B
, G21K 1/06 D
, G21K 1/06 G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
グラファイト面状体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-048442
Applicant:松原英一郎, 松下電器産業株式会社
-
特開平4-120500
-
特公昭41-014078
-
X線反射鏡製作方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-195064
Applicant:株式会社日立製作所
Show all
Return to Previous Page