Pat
J-GLOBAL ID:200903028740783081
ハーフトーン型位相シフトフオトマスク
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小西 淳美
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993323346
Publication number (International publication number):1995152145
Application date: Nov. 30, 1993
Publication date: Jun. 16, 1995
Summary:
【要約】【目的】 比較的簡単で、短時間にて作製ができる、正規パターンの外周部に遮光性の帯を設けたハーフトーン型位相シフトフオトマスクを提供する。【構成】 ステップアンドレピート露光するための、投影露光用ハーフトーン型位相シフトフオトマスクであって、正規のパターンの外周部に幅1〜10mmの遮光性帯を設けてあるハーフトーン型位相シフトフオトマスク。
Claim (excerpt):
感光性レジストを塗布したウエーハに、ステップアンドレピート露光するための、投影転写用のハーフトーン型の位相シフトフオトマスクであって、正規のパターンの外周部に所定幅の遮光帯を設けてあることを特徴とするハーフトーン型位相シフトフオトマスク。
IPC (2):
FI (2):
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
特開平4-136854
-
露光用マスク及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-278659
Applicant:富士通株式会社
-
露光用原図基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-148397
Applicant:日本電信電話株式会社
Return to Previous Page