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J-GLOBAL ID:200903028740783081

ハーフトーン型位相シフトフオトマスク

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小西 淳美
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993323346
Publication number (International publication number):1995152145
Application date: Nov. 30, 1993
Publication date: Jun. 16, 1995
Summary:
【要約】【目的】 比較的簡単で、短時間にて作製ができる、正規パターンの外周部に遮光性の帯を設けたハーフトーン型位相シフトフオトマスクを提供する。【構成】 ステップアンドレピート露光するための、投影露光用ハーフトーン型位相シフトフオトマスクであって、正規のパターンの外周部に幅1〜10mmの遮光性帯を設けてあるハーフトーン型位相シフトフオトマスク。
Claim (excerpt):
感光性レジストを塗布したウエーハに、ステップアンドレピート露光するための、投影転写用のハーフトーン型の位相シフトフオトマスクであって、正規のパターンの外周部に所定幅の遮光帯を設けてあることを特徴とするハーフトーン型位相シフトフオトマスク。
IPC (2):
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (2):
H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開平4-136854
  • 露光用マスク及びその製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-278659   Applicant:富士通株式会社
  • 露光用原図基板
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-148397   Applicant:日本電信電話株式会社

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