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J-GLOBAL ID：200903028758510104

セラミックヒータ及びそれを用いた成膜処理装置

Inventor：
花待 年彦

About 花待 年彦

, 
立川 俊洋

About 立川 俊洋

, 
福田 秀明

About 福田 秀明


Applicant, Patent owner：
日本発条株式会社

About 日本発条株式会社

, 
日本エー・エス・エム株式会社

About 日本エー・エス・エム株式会社


Agent (1)： 大島 陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000116329
Publication number (International publication number)：2001298020
Application date： Apr. 18, 2000
Publication date： Oct. 26, 2001
Summary：
【要約】【課題】 セラミックヒータの表面を保護するのに適するセラミックヒータ用カバーを実現する。【解決手段】 CVD装置に用いられるセラミックヒータ1の表面1aの全面を覆うようにカバープレート2を設け、カバープレートの表面を凹設してなる載置面2aにシリコンウェハ3を載置する。【効果】 セラミックヒータの表面をセラミックス製プレートからなるセラミックヒータ用カバーにより保護することができ、セラミックヒータの表面が直接ガスなどにさらされることがなく、例えばクリーニングガスによる腐食が生じてもその腐食はセラミックヒータ用カバーにのみ生じることから、メンテナンス時の交換はカバーのみで良くなり、メンテナンス費用の低コスト化を大きく向上し得る。
Claim (excerpt)：
セラミックヒータの加熱処理対象物を載置する側の表面に、該表面の略全体を覆うように形成されたセラミックス製プレートを前記表面に対して着脱可能に設けたことを特徴とするセラミックヒータ。
IPC (5)：
H01L 21/31 ,  H05B 3/10 ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/20 328 ,  C23C 16/46
FI (5)：
H01L 21/31 C ,  H05B 3/10 C ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/20 328 ,  C23C 16/46
F-Term (63)：
3K034AA12 ,  3K034BB06 ,  3K034BB14 ,  3K034BC01 ,  3K034BC17 ,  3K034BC29 ,  3K034HA01 ,  3K034HA10 ,  3K034JA02 ,  3K092PP09 ,  3K092PP20 ,  3K092QA05 ,  3K092QB26 ,  3K092QC28 ,  3K092RF03 ,  3K092RF11 ,  3K092RF19 ,  3K092RF27 ,  3K092SS24 ,  3K092SS33 ,  3K092SS34 ,  3K092TT06 ,  3K092VV03 ,  3K092VV09 ,  3K092VV22 ,  4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030AA16 ,  4K030AA18 ,  4K030BA40 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA06 ,  4K030FA03 ,  4K030JA01 ,  4K030KA14 ,  4K030KA23 ,  4K030KA46 ,  5F045AA03 ,  5F045AA08 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC12 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AE19 ,  5F045AE21 ,  5F045AE23 ,  5F045AF03 ,  5F045BB10 ,  5F045BB14 ,  5F045EB02 ,  5F045EB03 ,  5F045EB06 ,  5F045EF05 ,  5F045EH04 ,  5F045EH05 ,  5F045EH08 ,  5F045EK09 ,  5F045EM02 ,  5F045EM09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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