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J-GLOBAL ID：200903029026226000

調湿剤用シリカゲル

Inventor：
森 寛

About 森 寛

, 
加藤 波奈子

About 加藤 波奈子

, 
笠井 鉄夫

About 笠井 鉄夫

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矢野 智美

About 矢野 智美


Applicant, Patent owner：
三菱化学株式会社

About 三菱化学株式会社


Agent (1)： 真田 有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001401403
Publication number (International publication number)：2003201113
Application date： Dec. 28, 2001
Publication date： Jul. 15, 2003
Summary：
【要約】【課題】 周囲の雰囲気に含まれる湿分を吸着して該雰囲気を所定の湿度に調整する、調湿剤用シリカゲルであって、高効率且つ高精度な調湿を実現でき、且つ、低コストで製造できるようにする。【解決手段】 周囲の雰囲気に含まれる湿分を吸着して該雰囲気を所定の湿度に調整する、調湿剤用シリカゲルにおいて、(a)細孔容積が0.6〜2.0ml/gであり、(b)比表面積が300〜1000m2/gであり、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満であり、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が全細孔の総容積の50%以上であり、(e)非晶質であり、(f)アルカリ金属及びアルカリ土類金属を除く不純物金属の総含有率が500ppm以下であり、(g)固体Si-NMRでのQ4ピークのケミカルシフトをδ(ppm)とした場合、δが下記式(I)を満足するようにする。 -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・式(I)
Claim (excerpt)：
周囲の雰囲気に含まれる湿分を吸着して該雰囲気を所定の湿度に調整する、調湿剤用シリカゲルであって、(a)細孔容積が0.6〜2.0ml/gであり、(b)比表面積が300〜1000m2/gであり、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満であり、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の50%以上であり、(e)非晶質であり、(f)アルカリ金属及びアルカリ土類金属を除く金属不純物の総含有率が500ppm以下であり、(g)固体Si-NMRでのQ4ピークのケミカルシフトをδ(ppm)とした場合に、δが下記式(I) -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・式(I)を満足することを特徴とする、調湿剤用シリカゲル。
IPC (2)：
C01B 33/152 ,  B01D 53/28
FI (2)：
C01B 33/152 B ,  B01D 53/28
F-Term (22)：
4D052AA08 ,  4D052CE00 ,  4D052GA04 ,  4D052GB14 ,  4D052GB16 ,  4D052HA01 ,  4G072AA28 ,  4G072CC10 ,  4G072DD07 ,  4G072DD08 ,  4G072DD09 ,  4G072HH30 ,  4G072LL06 ,  4G072RR05 ,  4G072TT01 ,  4G072TT02 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072TT19 ,  4G072UU11 ,  4G072UU12
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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