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J-GLOBAL ID:200903029218209720

半導体装置の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993251863
Publication number (International publication number):1995106377
Application date: Oct. 07, 1993
Publication date: Apr. 21, 1995
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 半導体素子上に設けられたバンプ電極をリード端子に半田付けしても不要な部分に半田が付着するのを解消し、半導体装置の製造における歩留まり向上を目的とする。【構成】 素子形成された半導体基板にバンプ電極1aを形成するバンプ形成工程と、このバンプ形成工程を経て得られる半導体素子のバンプ電極を半田4によりリード端子2に接続する半田付け工程とを有する半導体装置の製造方法において、上記半田付け工程に際し、上記バンプ形成工程を経て得られる半導体素子をエッチング処理するようにした。
Claim (excerpt):
素子形成された半導体基板にバンプ電極を形成するバンプ形成工程と、このバンプ形成工程を経て得られる半導体素子のバンプ電極を半田によりリード端子に接続する半田付け工程とを有する半導体装置の製造方法において、上記半田付け工程に際し、上記バンプ形成工程を経て得られる半導体素子をエッチング処理することを特徴とする半導体装置の製造方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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