フォトマスクの洗浄装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宮田金雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998011352
Publication number (International publication number)：1999212249
Application date： Jan. 23, 1998
Publication date： Aug. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】エアーブローによりフォトマスク表面の洗浄およびフォトマスクケースの内部も清掃できると共に、洗浄後のフォトマスク表面の異物検査も効率良く行える洗浄装置を提供する。【解決手段】所定の位置に載置したフォトマスクケース2よりフォトマスク1を取り出し、第1のエアーブローノズル10により付着した異物を除去するフォトマスク洗浄手段と、フォトマスク洗浄手段により洗浄されたフォトマスク1の面上の異物を検査するために洗浄されたフォトマスク1を所定の状態に設定するフォトマスク検査位置設定手段と、エアーブローのためにフォトマスクが取り出された状態のフォトマスクケース2の内部を第2のエアーブローノズル11により清掃するケース内部清掃手段と、異物検査の終了したフォトマスク1を内部が清掃されたフォトマスクケース1に収納する収納手段とを備える。

Claim (excerpt)：

所定の位置に載置したフォトマスクケースよりフォトマスクを取り出し、第1のエアーブローノズルにより付着した異物を除去するフォトマスク洗浄手段と、上記フォトマスク洗浄手段により洗浄されたフォトマスクの面上の異物を検査するために、上記洗浄されたフォトマスクを所定の状態に設定するフォトマスク検査位置設定手段と、エアーブローのためにフォトマスクが取り出された状態の上記フォトマスクケースの内部を第2のエアーブローノズルにより清掃するケース内部清掃手段と、異物検査の終了したフォトマスクを上記ケース内部清掃手段により内部が清掃されたフォトマスクケースに収納する収納手段とを備えたことを特徴とするフォトマスクの洗浄装置。

IPC (5)：

G03F 1/08 , B08B 5/02 , G01N 21/88 , H01L 21/027 , H01L 21/304 645

FI (6)：

G03F 1/08 X , B08B 5/02 Z , G01N 21/88 E , H01L 21/304 645 Z , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 503 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

フォトマスクの異物検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-003726 Applicant：ソニー株式会社
マスク洗浄方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-359670 Applicant：新日本製鐵株式会社
マスク外観検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-273261 Applicant：宮崎沖電気株式会社, 沖電気工業株式会社

Show all

Return to Previous Page