投影露光装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995203277
Publication number (International publication number)：1997050954
Application date： Aug. 09, 1995
Publication date： Feb. 18, 1997
Summary：

【要約】【課題】投影光学系の周囲の大気圧等の環境変化、露光用照明光の吸収、又はレチクルの撓み等によって悪化する投影光学系の非線形的なデフォーカス(像面湾曲)を補正する。【解決手段】投影光学系PL1を構成するレンズエレメント25〜38A内でレンズエレメント36A,37Aのみを蛍石より形成し、その他のレンズエレメントを石英より構成する。レンズエレメント36A,37A及びレンズ枠G2で囲まれた気体室に、温度制御装置13aから温度制御された気体を供給し、その気体室を通過した気体を温度制御装置13aに戻す。石英からなるレンズエレメントに依って生ずる像面湾曲を、レンズエレメント36A,37Aの温度制御によって除去し、残留する線形倍率誤差を、レンズエレメント33,34間の気体室内の気体の圧力制御によって除去する。

Claim (excerpt)：

マスクパターンを投影光学系を介して感光基板上に投影する投影露光装置において、前記投影光学系は、互いに屈折率に関する温度特性の異なる硝材よりなる複数組の光学部材を有し、前記複数組の光学部材中の少なくとも1つの光学部材の温度制御を行う温度制御手段を設け、該温度制御手段を用いて前記投影光学系の結像面の前記投影光学系の光軸方向の位置を制御することを特徴とする投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G02B 7/28 , G03B 13/36 , G03F 7/20 521

FI (7)：

H01L 21/30 516 A , G03F 7/20 521 , G02B 7/11 M , G03B 3/00 A , H01L 21/30 502 H , H01L 21/30 516 E , H01L 21/30 516 F

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開平4-086668
投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-179410 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭60-159748

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