中性粒子線源

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡邉勇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996260261
Publication number (International publication number)：1998083899
Application date： Sep. 09, 1996
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：

【要約】【課題】残留イオンによる影響を極小として、絶縁性材料でも安定して照射を行うことができるような中性粒子線源を提供する。【解決手段】負イオン源と、負イオン源から負イオンを加速して引き出す引き出し手段と、引き出し手段で加速した負イオンの電子を分離させて中性粒子線を発生させる中性化手段とを有する。

Claim (excerpt)：

真空容器内に配した試料のドライエッチングやドライ洗浄などの表面処理法あるいは真空容器内に配した試料の表面分析法に利用する中性粒子線源において、負イオン源と、該負イオン源から負イオンを加速して引き出す引き出し手段と、該引き出し手段で加速した負イオンから電子を分離させて中性粒子線を発生させる中性化手段と、上記中性粒子線から残留負イオンや分離した電子などの荷電粒子の少なくとも一部を除去する荷電粒子除去手段とを有することを特徴とする中性粒子線源。

IPC (7)：

H05H 3/02 , H01J 27/02 , H01J 37/08 , H01J 37/252 , H01L 21/3065 , H01L 21/304 341 , H01J 49/10

FI (7)：

H05H 3/02 , H01J 27/02 , H01J 37/08 , H01J 37/252 B , H01L 21/304 341 D , H01J 49/10 , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平1-120826
特開昭62-291032
プラズマ処理方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-115655 Applicant：日本電気株式会社

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