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J-GLOBAL ID：200903029547730325

全反射蛍光X線分析法およびその装置

Inventor： 桜井 健次 ,  江場 宏美
Applicant, Patent owner： 独立行政法人物質・材料研究機構
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002215631
Publication number (International publication number)：2004061129
Application date： Jul. 24, 2002
Publication date： Feb. 26, 2004
Summary：

【課題】エネルギー分解能および検出効率ともに優れた、超微量分析を実現することのできる、新しい全反射蛍光X線分析法およびその装置を提供する。【解決手段】全反射条件またはその近傍において試料から放出される蛍光X線(B)の分光を湾曲結晶(1)により行う。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

全反射条件またはその近傍において試料から放出される蛍光X線の分光を湾曲結晶により行うことを特徴とする全反射蛍光X線分析法。

IPC (1)：

G01N23/223

FI (1)：

G01N23/223

F-Term (13)：

2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA15 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001EA02 ,  2G001EA20 ,  2G001GA01 ,  2G001KA01 ,  2G001PA07 ,  2G001RA02 ,  2G001RA03 ,  2G001SA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 蛍光X線分析方法及び試料構造の評価方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-304935   Applicant：富士通株式会社
• 放射線検出システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-246514   Applicant：株式会社ワイヤードジャパン
• 全反射蛍光X線分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-069911   Applicant：三洋電機株式会社