ガス供給システム

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：小原肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998268980
Publication number (International publication number)：2000081200
Application date： Sep. 07, 1998
Publication date： Mar. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】ガス供給システムの周辺にガス検知器が配置されているため、ガス検知器によってガス漏れを検出してもガス供給システム(特に配管)のガス漏れ箇所を特定することが難しく、ガス漏れ箇所の特定及びガス漏れ該当箇所の配管交換等の修繕作業に多大な時間を要し、処理装置の停止時間が長くなる。【解決手段】本発明のガス供給システムは、第1、第2配管2、4を介してシリンダ1の処理用ガスを処理装置6へ供給するもので、第1筐体8と第2筐体9を第1配管2及び第1外管11からなる二重管構造で接続し、第2筐体9と第3筐体10を第2配管4及び第2外管12からなる二重管構造で接続し、二重管構造の隙間δ1、δ2に従って第2筐体9側から第1、第3筐体8、10内へ窒素ガスを供給し、第1、第2配管1、4で漏れた処理用ガスを第1、第3筐体8、10内のガス検知器17で検出することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

処理用ガスを供給するガス供給源と、このガス供給源と第1配管を介して接続された集合バルブと、この集合バルブの下流側で第2配管を介して接続された遮断バルブとを備え、上記集合バルブ及び遮断バルブを介して上記ガス供給源から処理装置へ処理用ガスを供給するガス供給システムであって、上記ガス供給源、集合バルブ及び遮断バルブをそれぞれ収納する第1、第2、第3筐体と、第1筐体と第2筐体を互いに接続すると共に第1配管との間に第1隙間を介在させて二重管構造を形成する第1外管と、第2筐体と第3筐体を互いに接続すると共に第2配管との間に第2隙間を介在させて二重管構造を形成する第2外管と、第2筐体側から第1、第3筐体内へ第1、第2隙間を介して不活性ガスを供給する不活性ガス供給源と、少なくとも第1、第3筐体内に設けられて上記処理用ガスを検出するガス検知器とを備えたこと特徴とするガス供給システム。

IPC (2)：

F17D 5/04 , G01M 3/04

FI (2)：

F17D 5/04 , G01M 3/04 D

F-Term (12)：

2G067AA11 , 2G067BB37 , 2G067CC04 , 3J071AA02 , 3J071BB11 , 3J071BB14 , 3J071CC06 , 3J071DD22 , 3J071EE06 , 3J071EE28 , 3J071EE38 , 3J071FF11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

ガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-100229 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
特開昭63-319291
特開平1-225320

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