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J-GLOBAL ID：200903029701973775

イオンビーム加工方法

Inventor： 長野 正裕 ,  山田 公 ,  豊田 紀章
Applicant, Patent owner： 財団法人電力中央研究所
Agent (1)： 村瀬 一美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004124486
Publication number (International publication number)：2005310977
Application date： Apr. 20, 2004
Publication date： Nov. 04, 2005
Summary：

【課題】加工面の表面粗さを悪化させずに加工時間を短縮する。【解決手段】ガスクラスターイオンビームを照射してワークを加工するイオンビーム加工方法であって、ガスクラスターイオンビームを加速する加速電圧の値を段階的に又は連続的に減少させながら加工を行う。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

ガスクラスターイオンビームを照射してワークを加工するイオンビーム加工方法において、前記ガスクラスターイオンビームを加速する加速電圧の値を段階的に又は連続的に減少させながら加工を行うことを特徴とするイオンビーム加工方法。

IPC (2)：

H01L21/302 ,  C23F4/00

FI (2)：

H01L21/302 201B ,  C23F4/00 A

F-Term (23)：

4E066AA03 ,  4E066BA13 ,  4E066BE08 ,  4E066CA14 ,  4K057DA11 ,  4K057DB06 ,  4K057DD04 ,  4K057DG15 ,  4K057DM21 ,  4K057DN01 ,  5C034BB09 ,  5F004AA06 ,  5F004AA11 ,  5F004AA14 ,  5F004BA11 ,  5F004BB12 ,  5F004CA03 ,  5F004DA00 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB19 ,  5F004DB20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• ガスクラスターイオンビームによる 超精密研磨加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-262910   Applicant：新技術事業団, 安達新産業株式会社

Cited by examiner (1)

• 表面平滑加工用適応GCIB
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-511710   Applicant：エピオンコーポレイション