排ガス浄化装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：真田有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996205127
Publication number (International publication number)：1998047040
Application date： Aug. 02, 1996
Publication date： Feb. 17, 1998
Summary：

【要約】【課題】超希薄燃焼を行なう筒内噴射型内燃機関において排ガス浄化を行なう排ガス浄化装置に関し、排ガスを浄化する触媒の温度低下を抑制し、排ガス浄化効率の悪化を防止することができるようにする。【解決手段】燃焼室内に直接燃料を噴射し、理論空燃比よりも空燃比の大きい層状超リーン燃焼を運転状態に応じて行なう筒内噴射型内燃機関に設けられ、上記機関の排気通路内に配設され排ガスを浄化する触媒9と、上記触媒9の温度を検出して上記触媒9の温度低下を検出もしくは予測することにより、または温度低下を生じる特定運転状態を検出して上記触媒9の温度低下を推定することにより、上記触媒9の温度低下を検出する温度低下検出手段111と、上記温度低下検出手段111により上記触媒9の温度低下が検出された場合に上記触媒9の温度低下を抑制するように作動する温度低下抑制手段110とを設ける。

Claim (excerpt)：

燃焼室内に直接燃料を噴射し、理論空燃比よりも空燃比の大きい層状超リーン燃焼を運転状態に応じて行なう筒内噴射型内燃機関に設けられ、上記機関の排気通路内に配設され排ガスを浄化する触媒と、上記触媒の温度を検出して上記触媒の温度低下を検出もしくは予測することにより、または温度低下を生じる特定運転状態を検出して上記触媒の温度低下を推定することにより、上記触媒の温度低下を検出する温度低下検出手段と、上記温度低下検出手段により上記触媒の温度低下が検出された場合に上記触媒の温度低下を抑制するように作動する温度低下抑制手段とを備えたことを特徴とする、排ガス浄化装置。

IPC (12)：

F01N 3/20 ZAB , B01D 53/86 ZAB , B01D 53/94 , F01N 3/24 ZAB , F02D 41/02 ZAB , F02D 41/02 330 , F02D 41/02 , F02D 41/04 ZAB , F02D 41/04 305 , F02D 41/04 385 , F02D 45/00 ZAB , F02D 45/00 310

FI (13)：

F01N 3/20 ZAB E , F01N 3/24 ZAB R , F02D 41/02 ZAB , F02D 41/02 330 A , F02D 41/02 330 F , F02D 41/02 330 H , F02D 41/04 ZAB , F02D 41/04 305 A , F02D 41/04 385 M , F02D 45/00 ZAB , F02D 45/00 310 R , B01D 53/36 ZAB , B01D 53/36 101 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

特開平4-321747
特開昭61-072876
特公平6-039928

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