レジスト用ポリマーの製造方法、およびポジ型感放射線性組成物

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003064771
Publication number (International publication number)：2003342306
Application date： Mar. 11, 2003
Publication date： Dec. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】高感度と高解像度の特性を併せ持つレジスト用ポリマーの製造方法、および低露光量で微細なパターン加工が可能なポジ型感放射線性組成物を提供する。【解決手段】エステル基、アルコール性水酸基、およびフェノール性水酸基のうち少なくとも1種を含有する連鎖移動剤を添加してモノマーを重合することを特徴とするレジスト用ポリマーの製造方法、およびこの方法で製造され、且つ酸の作用でアルカリ可溶となるポリマーと、放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物。

Claim (excerpt)：

エステル基、アルコール性水酸基、およびフェノール性水酸基のうち少なくとも1種を含有する連鎖移動剤を添加してモノマーを重合することを特徴とするレジスト用ポリマーの製造方法。

IPC (4)：

C08F 2/38 , C08F 20/02 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (4)：

C08F 2/38 , C08F 20/02 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (42)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 4J011AA05 , 4J011AA06 , 4J011NA24 , 4J011NA25 , 4J011NA30 , 4J011NB06 , 4J100AB02Q , 4J100AB07Q , 4J100AJ02Q , 4J100AL03Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA04P , 4J100BA15P , 4J100BA40P , 4J100BB01P , 4J100BB03P , 4J100BB18P , 4J100BC09P , 4J100BC43P , 4J100BC43Q , 4J100BC43R , 4J100BC49P , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100FA04 , 4J100JA37

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

化学増幅型レジスト用共重合体の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-176931 Applicant：三菱レイヨン株式会社

Cited by examiner (2)

遠紫外線露光用ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-297145 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-216050 Applicant：東レ株式会社

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