Pat
J-GLOBAL ID:200903030051509430
単結晶窒化アルミニウム膜およびその形成方法、III族窒化物膜用下地基板、発光素子、並びに表面弾性波デバイス
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大島 正孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003068361
Publication number (International publication number):2004137142
Application date: Mar. 13, 2003
Publication date: May. 13, 2004
Summary:
【課題】転位密度が小さく、格子不整合が少なく、結晶性が優れており、その膜上に発光効率が優れたIII族窒化物膜を形成することができ、そしてIII族窒化物膜用下地基板、発光素子並びに表面弾性波デバイスに用いられる単結晶窒化アルミニウム膜を提供すること。【解決手段】サファイア基板の如き単結晶α-Al2O3基板上に、酸窒化アルミニウム層を介して最外層に単結晶窒化アルミニウム膜が積層されそして単結晶窒化アルミニウム内の転位密度が108個/cm2以下である単結晶窒化アルミニウム積層基板。カーボン、窒素および一酸化炭素の存在下に、基板を加熱処理することにより窒化して上記単結晶窒化アルミニウム膜並びに単結晶窒化アルミニウム積層基板が形成される。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
単結晶α-Al2O3基板上に、酸窒化アルミニウム層を介して最外層に単結晶窒化アルミニウム膜が積層されそして単結晶窒化アルミニウム内の転位密度が108個/cm2以下であることを特徴とする単結晶窒化アルミニウム積層基板。
IPC (4):
C30B29/38
, C30B25/18
, H01L21/205
, H01L33/00
FI (4):
C30B29/38 C
, C30B25/18
, H01L21/205
, H01L33/00 C
F-Term (24):
4G077AA03
, 4G077AB01
, 4G077AB02
, 4G077BE13
, 4G077DB01
, 4G077ED05
, 4G077ED06
, 4G077EF03
, 4G077HA02
, 4G077TK06
, 4G077TK08
, 5F041AA40
, 5F041CA40
, 5F041CA57
, 5F041CA73
, 5F045AA20
, 5F045AB09
, 5F045AC00
, 5F045AC15
, 5F045AD18
, 5F045AF09
, 5F045BB12
, 5F045CA11
, 5F045CA12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
特開平2-141495
-
表面層を改質した透光性アルミナ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-272649
Applicant:東芝セラミックス株式会社
-
スピネル基板上に窒化ガリウムを成長させる方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-011932
Applicant:モトローラ・インコーポレイテッド
-
半導体発光素子及びその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-219179
Applicant:日本電信電話株式会社
-
エピタキシャル下地基板及びエピタキシャル基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-387772
Applicant:日本碍子株式会社
Show all
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page